[發(fā)明專利]使用酸性氧化電位水對冷飲模具清洗消毒的系統(tǒng)及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310075854.1 | 申請日: | 2013-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN104043606A | 公開(公告)日: | 2014-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇玉芳;張曉君;王彩云;云戰(zhàn)友 | 申請(專利權(quán))人: | 內(nèi)蒙古伊利實(shí)業(yè)集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B3/10;A61L2/18 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 董惠石 |
| 地址: | 010110 內(nèi)蒙古自*** | 國省代碼: | 內(nèi)蒙古;15 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 使用 酸性 氧化 電位 冷飲 模具 清洗 消毒 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種使用酸性氧化電位水對冷飲模具清洗消毒的系統(tǒng),設(shè)置在下部的冷飲模具鏈條(1)的下方,其特征在于,所述使用酸性氧化電位水對冷飲模具清洗消毒的系統(tǒng)包括沿下部的冷飲模具鏈條(1)的前進(jìn)方向依次設(shè)置的熱水循環(huán)清洗裝置(2)、清水循環(huán)清洗裝置(3)和酸性氧化電位水清洗消毒裝置(4),酸性氧化電位水清洗消毒裝置(4)包括酸性氧化電位水儲存裝置(41)、至少一個(gè)酸性氧化電位水噴射清洗裝置(42)、用于為酸性氧化電位水噴射清洗裝置(42)提供壓力的加壓裝置(46)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于:熱水循環(huán)清洗裝置(2)包括設(shè)置在下部的冷飲模具鏈條(1)下方的熱水儲水箱(21)、設(shè)置在熱水儲水箱(21)上方用于清洗冷飲模具(11)內(nèi)部的一排噴嘴(23)、連接熱水儲水箱(21)和噴嘴(23)的泵(22)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于:清水循環(huán)清洗裝置(3)包括設(shè)置在下部的冷飲模具鏈條(1)下方的清水儲水箱(31)、設(shè)置在清水儲水箱(31)上方用于清洗冷飲模具(11)內(nèi)部的一排噴嘴(33)、連接清水儲水箱(31)和噴嘴(33)的泵(32)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于:酸性氧化電位水噴射清洗裝置(42)包括設(shè)置在冷飲模具(11)下方用于清洗冷飲模具(11)內(nèi)部的一排噴嘴(43)、用于固定噴嘴(43)的水平滑桿(44)、用于支撐水平滑桿(44)的固定支架(45),一排噴嘴(43)中含有多個(gè)噴嘴(43),每個(gè)噴嘴(43)的水平高度均相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其特征在于:噴嘴(43)為霧化噴嘴,或旋轉(zhuǎn)噴嘴。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其特征在于:酸性氧化電位水儲存裝置(41)和加壓裝置(46)通過氣液混合管(47)與噴嘴(43)連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其特征在于:水平滑桿(44)位于冷飲模具鏈條(1)的下方,水平滑桿(44)的軸線垂直于冷飲模具鏈條(1)的前進(jìn)方向,水平滑桿(44)能夠以水平滑桿(44)的軸線為軸轉(zhuǎn)動(dòng),噴嘴(43)能夠沿水平滑桿(44)的軸線滑動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng),其特征在于:酸性氧化電位水清洗消毒裝置(4)包括至少兩個(gè)酸性氧化電位水噴射清洗裝置(42),每個(gè)酸性氧化電位水噴射清洗裝置(42)中的一排噴嘴(43)的水平高度均有差別。
9.一種使用酸性氧化電位水對冷飲模具清洗消毒的方法,其特征在于,所述使用酸性氧化電位水對冷飲模具清洗消毒的方法包括以下步驟:
步驟一、用熱水清洗冷飲模具(11)內(nèi)部未脫模的冷飲制品;
步驟二、用清水清洗冷飲模具(11)內(nèi)部;
步驟三、用酸性氧化電位水清洗消毒冷飲模具(11)內(nèi)部。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述步驟一與所述步驟二的間隔時(shí)間為25S~35S,所述步驟二與所述步驟三的間隔時(shí)間為25S~35S。
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