[發(fā)明專利]鍍覆裝置和鍍覆物的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310073513.0
• 申請日: 2013-03-08
• 公開（公告）號: CN103305895A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山本渡;秋山勝德;小巖仁子;伊藤潤
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社山本鍍金試驗(yàn)器;福吉米股份有限公司
• 主分類號: C25D15/00
• 分類號: C25D15/00;C25D7/06;B23D61/18
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及鍍覆裝置和鍍覆物的制造方法。

背景技術(shù)

以往，已知有在金屬絲的外周面固結(jié)有金剛石等研磨粒的線鋸。這種線鋸例如在從由單晶或多晶等構(gòu)成的鑄塊切斷(切削)為半導(dǎo)體用晶圓時使用。

另外，開發(fā)了很多用于制造線鋸的鍍覆裝置，并已進(jìn)入實(shí)用化階段。

例如，在專利文獻(xiàn)1中公開了一種鍍覆裝置，其具備：供給金屬絲的第1卷筒；對由第1卷筒供給的金屬絲進(jìn)行卷繞的第2卷筒；和配置在第1卷筒和第2卷筒之間且收納有鍍覆液和研磨粒的鍍覆槽。

該鍍覆裝置中，通過在由第1卷筒供給的金屬絲通過鍍覆槽時對金屬絲的外周面實(shí)施電鍍，由此來固結(jié)研磨粒。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開昭63-22275號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

但是，在上述專利文獻(xiàn)1所述的發(fā)明中，使金屬絲從沉淀在鍍覆槽中的沉淀層的表面進(jìn)入該沉淀層內(nèi)之后，使金屬絲沿著相對沉淀層的表面大致平行的方向移動同時使研磨粒附著，因此附著在金屬絲上的研磨粒與沉淀層的其他研磨粒相互刮擦而容易從金屬絲上脫落。其結(jié)果是產(chǎn)生研磨粒的附著量減少這樣的問題，同時會產(chǎn)生附著在金屬絲上的研磨粒的分布不均增大這樣的問題，進(jìn)一步會產(chǎn)生難以控制附著在金屬絲上的研磨粒的量這樣的問題。

需要說明的是，這樣的問題在例如使粒狀物附著在薄膜或碳纖維等上的情況下也是共通的問題。

本發(fā)明是基于這樣的觀點(diǎn)而發(fā)明完成的，其課題在于提供一種鍍覆裝置和鍍覆物的制造方法，其能夠適當(dāng)確保粒狀物的附著量，同時附著在被鍍覆物上的粒狀物的分布不均減小，進(jìn)一步容易控制附著在被鍍覆物上的粒狀物的量。

用于解決課題的方法

用于解決所述課題的本發(fā)明是通過實(shí)施電鍍而使粒狀物固結(jié)在被鍍覆物的外面的鍍覆裝置，其特征在于，該鍍覆裝置具備收納有鍍覆液、和所述粒狀物在所述鍍覆液中沉淀而成的沉淀層的鍍覆槽，所述被鍍覆物從所述鍍覆槽的底部或側(cè)部進(jìn)入所述沉淀層，同時在與所述沉淀層的表面交叉的方向上移動，由此在與所述沉淀層的表面交叉的部分使所述粒狀物附著。

根據(jù)本發(fā)明，被鍍覆物從鍍覆槽的底部或側(cè)部進(jìn)入沉淀層，同時在與沉淀層的表面交叉的方向上移動，由此在與所述沉淀層的表面交叉的部分使粒狀物附著，因此避免了附著在被鍍覆物上的粒狀物與沉淀層的其他粒狀物的相互刮擦，從而能夠防止粒狀物從被鍍覆物上脫落。其結(jié)果是：能夠適當(dāng)確保粒狀物的附著量，同時附著在被鍍覆物上的粒狀物的分布不均減小，進(jìn)一步容易對附著在被鍍覆物上的粒狀物的量進(jìn)行控制。

另外，優(yōu)選按照如下方式構(gòu)成：所述鍍覆裝置進(jìn)一步具備配置在所述鍍覆槽內(nèi)的陽極部件、配置在所述鍍覆槽外且與所述被鍍覆物接觸的陰極部件、和對所述陽極部件和所述陰極部件進(jìn)行通電的通電單元，其中，所述陽極部件與所述沉淀層的表面接觸或接近。

根據(jù)所述構(gòu)成，陽極部件與沉淀層的表面接觸或接近，由此在沉淀層的表面附近可靠地產(chǎn)生電場，因此在與沉淀層的表面交叉的部分，粒狀物更加容易附著在被鍍覆物的外面。

另外，優(yōu)選按照如下的方式構(gòu)成：所述鍍覆槽具有外側(cè)鍍覆槽、和配置在所述外側(cè)鍍覆槽內(nèi)的內(nèi)側(cè)鍍覆槽，其中，在所述外側(cè)鍍覆槽中收納有液體、和對所述液體進(jìn)行加溫的加溫單元；在所述內(nèi)側(cè)鍍覆槽中收納有所述鍍覆液以及所述沉淀層。

根據(jù)所述構(gòu)成，加溫單元收納在外側(cè)鍍覆槽中，鍍覆液和沉淀層收納在內(nèi)側(cè)鍍覆槽中，從而使加溫單元和沉淀層分別收納在各自的鍍覆槽內(nèi)，因此能夠防止由于與粒狀物的接觸導(dǎo)致加溫單元的損傷。

另外，加溫單元收納在外側(cè)鍍覆槽中，由此能夠縮小僅該部分在內(nèi)側(cè)鍍覆槽中所占據(jù)的空間，因此內(nèi)側(cè)鍍覆槽內(nèi)的粒狀物的密度增大，從而能夠使粒狀物迅速地附著在被鍍覆物的外面。

另外，優(yōu)選按照如下的方式構(gòu)成：在所述鍍覆槽的底部或側(cè)部形成有插入所述被鍍覆物的第1插入孔，并且設(shè)置了保持所述鍍覆槽的密閉性的密閉部件，其中，在所述密閉部件中形成了與所述第1插入孔連通且用于插入所述被鍍覆物的第2插入孔。

根據(jù)所述構(gòu)成，在鍍覆槽的底部或側(cè)部設(shè)置了保持鍍覆槽的密閉性的密閉部件，由此能夠防止鍍覆液以及粒狀物從鍍覆槽中漏出。

另外，優(yōu)選為進(jìn)一步具備對所述沉淀層進(jìn)行攪拌的攪拌單元這樣的構(gòu)成。

沉淀層中堆積了尺寸各樣的粒狀物，在沉淀層的表面比較小(輕)的粒狀物易堆積，根據(jù)所述構(gòu)成，通過攪拌單元使小的粒狀物浮游在鍍覆液中，因此能夠防止僅有小的粒狀物附著在被鍍覆物上。由此能夠使尺寸各樣的粒狀物均等地附著在被鍍覆物上。