[發(fā)明專利]鍍覆裝置和鍍覆物的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310073513.0
• 申請日: 2013-03-08
• 公開（公告）號: CN103305895A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發(fā)明（設計）人: 山本渡;秋山勝德;小巖仁子;伊藤潤
• 申請（專利權）人: 株式會社山本鍍金試驗器;福吉米股份有限公司
• 主分類號: C25D15/00
• 分類號: C25D15/00;C25D7/06;B23D61/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

1.一種鍍覆裝置，其是通過實施電鍍而使粒狀物固結在被鍍覆物的外面的鍍覆裝置，其特征在于，

該鍍覆裝置具備收納有鍍覆液、和所述粒狀物在所述鍍覆液中沉淀而成的沉淀層的鍍覆槽，

所述被鍍覆物從所述鍍覆槽的底部或側部進入所述沉淀層，同時在與所述沉淀層的表面交叉的方向上移動，由此在與所述沉淀層的表面交叉的部分使所述粒狀物附著。

2.如權利要求1所述的鍍覆裝置，其特征在于，

該鍍覆裝置進一步具備：

配置在所述鍍覆槽內的陽極部件；

配置在所述鍍覆槽外且與所述被鍍覆物接觸的陰極部件；和

對所述陽極部件和所述陰極部件進行通電的通電單元，

所述陽極部件與所述沉淀層的表面接觸或接近。

3.如權利要求1或權利要求2所述的鍍覆裝置，其特征在于，

所述鍍覆槽具有外側鍍覆槽、和配置在所述外側鍍覆槽內的內側鍍覆槽，

在所述外側鍍覆槽中收納有液體、和對所述液體進行加溫的加溫單元；

在所述內側鍍覆槽中收納有所述鍍覆液以及所述沉淀層。

4.如權利要求1或權利要求2所述的鍍覆裝置，其特征在于，

在所述鍍覆槽的底部或側部形成有用于插入所述被鍍覆物的第1插入孔，并且設置有用于保持所述鍍覆槽的密閉性的密閉部件，

在所述密閉部件中形成有與所述第1插入孔連通且用于插入所述被鍍覆物的第2插入孔。

5.如權利要求1或權利要求2或權利要求4任一項所述的鍍覆裝置，其特征在于，該鍍覆裝置進一步具備用于對所述沉淀層進行攪拌的攪拌單元。

6.一種鍍覆物的制造方法，其是通過實施電鍍而使粒狀物固結在被鍍覆物的外面的鍍覆物的制造方法，其特征在于，

該制造方法具備向鍍覆槽導入所述被鍍覆物的導入工序，所述鍍覆槽收納有鍍覆液、和所述粒狀物在所述鍍覆液中沉淀而成的沉淀層，

所述導入工序中，使所述被鍍覆物從所述鍍覆槽的底部或側部進入所述沉淀層，同時使所述被鍍覆物在與所述沉淀層的表面交叉的方向上移動，由此在與所述沉淀層的表面交叉的部分使所述粒狀物附著在所述被鍍覆物的外面。