[發(fā)明專利]導電性膜卷的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310073333.2 | 申請日: | 2013-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN103310906A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 藤野望;鷹尾寬行;石橋邦昭 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00;H01B5/14;G06F3/044 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導電性 制造 方法 | ||
1.一種導電性膜卷的制造方法,其特征在于,所述導電性膜卷的制造方法包含:
第1工序,邊使長條狀的膜基材接觸第1成膜輥邊進行搬運,在所述膜基材的第1面?zhèn)韧ㄟ^濺射法順次層疊第1透明導電體層、第1金屬層和氧化金屬被膜層,形成第1層疊體,
第2工序,將形成了所述第1層疊體的膜基材不卷成卷狀而供給到第2成膜輥,邊使該第1層疊體的氧化金屬被膜層接觸該第2成膜輥邊進行搬運,在所述膜基材的沒有形成所述第1層疊體的第2面?zhèn)韧ㄟ^濺射法順次層疊第2透明導電體層和第2金屬層,形成第2層疊體,
第3工序,將所述第2層疊體卷成卷狀。
2.如權利要求1所述的導電性膜卷的制造方法,其特征在于,在所述第1工序中,形成厚度1nm~15nm的氧化金屬被膜層。
3.如權利要求1所述的導電性膜卷的制造方法,其特征在于,所述第1金屬層以及第2金屬層用從由銅、銀、鋁、銅合金、鎳合金、鈦合金以及銀合金構成的組中選出的材料形成。
4.如權利要求1所述的導電性膜卷的制造方法,其特征在于,所述氧化金屬被膜層用從由銅、銀、鋁、銅合金、鎳合金、鈦合金以及銀合金構成的組中選出的材料的氧化物形成。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日東電工株式會社,未經(jīng)日東電工株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310073333.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





