[發(fā)明專利]導(dǎo)電性膜卷的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310073333.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103310906A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藤野望;鷹尾寬行;石橋邦昭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日東電工株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01B13/00 | 分類號(hào): | H01B13/00;H01B5/14;G06F3/044 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會(huì)華 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電性 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及適用于能夠通過手指或觸控筆(stylus?pen)等的接觸而輸入信息的輸入顯示裝置等的導(dǎo)電性膜卷的制造方法。
背景技術(shù)
目前,已知一種導(dǎo)電性膜,該導(dǎo)電性膜具備形成在膜基材的兩面的透明導(dǎo)電體層和形成在各透明導(dǎo)電體層的表面的金屬層(專利文獻(xiàn)1)。將這樣的導(dǎo)電性膜用于例如接觸式傳感器時(shí),對(duì)金屬層進(jìn)行加工,在接觸輸入?yún)^(qū)域的外緣部形成引導(dǎo)布線,從而能夠?qū)崿F(xiàn)窄邊框化。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2011-060146號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
但是,上述現(xiàn)有的導(dǎo)電性膜存在將該膜卷成卷狀時(shí)鄰接的膜彼此壓接的問題。如果將壓接的膜彼此剝離,則有時(shí)損傷膜內(nèi)的透明導(dǎo)電體層,可能導(dǎo)致品質(zhì)降低。
本發(fā)明的目的是提供一種鄰接的膜彼此不壓接而能夠維持高品質(zhì)的導(dǎo)電性膜卷的制造方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的導(dǎo)電性膜卷的制造方法的特征在于包含:第1工序,邊使長(zhǎng)條狀的膜基材接觸第1成膜輥邊進(jìn)行搬運(yùn),在所述膜基材的第1面?zhèn)韧ㄟ^濺射法順次層疊第1透明導(dǎo)電體層、第1金屬層和氧化金屬被膜層,形成第1層疊體;第2工序,將形成了所述第1層疊體的膜基材不卷成卷狀而供給到第2成膜輥,邊使該第1層疊體的氧化金屬被膜層接觸該第2成膜輥邊進(jìn)行搬運(yùn),在所述膜基材的沒有形成所述第1層疊體的第2面?zhèn)韧ㄟ^濺射法順次層疊第2透明導(dǎo)電體層和第2金屬層,形成第2層疊體;第3工序,將所述第2層疊體卷成卷狀。
另外,優(yōu)選在所述第1工序中,形成厚度1nm~15nm的氧化金屬被膜層。
優(yōu)選所述第1金屬層以及所述第2金屬層用從由銅、銀、鋁、銅合金、鎳合金、鈦合金以及銀合金構(gòu)成的組中選出的材料形成。
另外,優(yōu)選所述氧化金屬被膜層用從由銅、銀、鋁、銅合金、鎳合金、鈦合金以及銀合金構(gòu)成的組中選出的材料的氧化物形成。
根據(jù)本發(fā)明,邊使膜基材接觸第1成膜輥邊進(jìn)行搬運(yùn),在上述膜基材的第1面?zhèn)韧ㄟ^濺射法順次層疊第1透明導(dǎo)電體層、第1金屬層和氧化金屬被膜層,形成第1層疊體。然后,將形成了上述第1層疊體的膜基材不卷成卷狀而供給到第2成膜輥,在上述膜基材的沒有形成上述第1層疊體的第2面?zhèn)龋ㄟ^濺射法順次層疊第2透明導(dǎo)電體層和第2金屬層,形成第2層疊體。根據(jù)本方法,鄰接的膜彼此不壓接,能夠維持高品質(zhì)。
附圖說明
圖1是表示本發(fā)明實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜卷的制造方法的流程圖。
圖2是概略地表示適用圖1的制造方法的濺射裝置的圖。
圖3是表示通過圖2的濺射裝置制造的導(dǎo)電性膜卷之一例的側(cè)視圖。
符號(hào)說明
1濺射裝置
10腔室
11,22保持部
12導(dǎo)輥
13,18成膜輥
14,15,16,19,20靶材
17a,17b,17c,17d導(dǎo)輥
21導(dǎo)輥
23搬運(yùn)室
24,25,26,27,28處理室
30初始卷
31卷
40導(dǎo)電性膜卷
41導(dǎo)電性膜
42膜基材
43透明導(dǎo)電體層
44金屬層
45透明導(dǎo)電體層
46金屬層
47氧化金屬被膜層
具體實(shí)施方式
0以下邊參照附圖邊詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
本實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜卷的制造方法如圖1所示,首先邊使長(zhǎng)條狀的膜基材接觸第1成膜輥邊進(jìn)行搬運(yùn)(步驟S11),在膜基材的不接觸該第1成膜輥的第1面?zhèn)韧ㄟ^濺射法順次層疊第1透明導(dǎo)電體層、第1金屬層和氧化金屬被膜層,形成第1層疊體(步驟S12)。接下來,將形成了第1層疊體的膜基材不卷成卷狀而供給到第2成膜輥(步驟S13),邊使第1層疊體的上述氧化金屬被膜層接觸第2成膜輥邊進(jìn)行搬運(yùn)(步驟S14),在該膜基材的沒有形成上述第1層疊體的第2面?zhèn)韧ㄟ^濺射法順次層疊第2透明導(dǎo)電體層和第2金屬層,形成第2層疊體(步驟S15)。然后,將形成了第1以及第2層疊體的膜基材(導(dǎo)電性膜)卷成卷狀(步驟S16)。
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