[發明專利]一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置

有效

• 申請號: 201310072120.8
• 申請日: 2013-03-07
• 公開（公告）號: CN103165680A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 冀新友;王德帥
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L29/786
• 分類號: H01L29/786;H01L29/51;H01L21/28
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置。

背景技術

顯示器作為顯示工具，在人們的日常生活中扮演著越來越重要的角色。且隨著技術的不斷更新，人們對顯示器的要求也越來越高。例如人們要求其具有高亮度、寬視角、高分辨率等。

其中，現有技術中，一種提高顯示器亮度的方法為提高光的利用效率。現有的顯示器，包括陣列基板，如圖1、圖2所示，所述陣列基板包括基板1以及設置在所述基板1上的柵線2、數據線4以及公共電極線6，其中，柵線2和數據線4圍成的區域稱為像素區，在像素區設置有薄膜晶體管3等器件，像素區除薄膜晶體管3等器件之外的區域為顯示區。如圖2所示，光線穿過顯示區要依次經過基板1以及設置在基板1上面的柵絕緣層7、鈍化層8和像素電極層5。而要想提高光的利用效率就要提高基板、柵絕緣層、鈍化層以及像素電極層等的透過率，以減小光的損失。

發明內容

本發明的實施例提供一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置，所述透明薄膜包括至少三個子層，且所述至少三個子層的折射率依排列順序依次變化，使得所述透明薄膜的透過率更高。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

本發明實施例提供了一種透明薄膜，包括層疊的至少三個子層，所述至少三個子層的折射率各不相同，且位于最底層和最頂層之間的任一個子層的折射率介于與其相鄰的兩個子層的折射率之間。

可選的，形成所述透明薄膜的材料為氮化硅。

本發明實施例提供了一種透明薄膜的制作方法，包括：

設置初始工藝條件，形成所述透明薄膜的初始子層；

按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調節所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續子層。

可選的，所述設置初始工藝條件包括：設置初始的生成溫度、生成壓力、功率以及氣體流量。

可選的，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調節所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續子層包括：

采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層；

或者，

采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層。

可選的，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調節所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續子層包括：

采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層；

或者，

采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層。

本發明實施例提供了一種顯示用基板，包括：基板以及設置在所述基板上的多個像素結構；所述像素結構分為透光區和非透光區，且所述像素結構中位于所述透光區的部分包括多個的透明薄膜，其中，所述至少一個透明薄膜為本發明實施例提供的任一所述的薄膜。

可選的，所述顯示用基板為陣列基板，每一像素結構中的一個所述透明薄膜為柵絕緣層的部分，或為鈍化層的部分。

本發明提供了一種顯示用基板，包括：基板以及設置在所述基板上的多個像素結構；所述像素結構分為透光區和非透光區，且所述像素結構中位于所述透光區的部分包括多個透明薄膜，且所述多個透明薄膜中至少三個相鄰的透明薄膜的折射率依排列順序依次變化。

本發明提供了一種顯示裝置，包括本發明實施例提供的任一所述的顯示用基板。