[發明專利]一種透明薄膜及其制作方法、顯示用基板及顯示裝置

有效

• 申請號: 201310072120.8
• 申請日: 2013-03-07
• 公開（公告）號: CN103165680A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 冀新友;王德帥
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L29/786
• 分類號: H01L29/786;H01L29/51;H01L21/28
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種透明薄膜，其特征在于，包括層疊的至少三個子層，所述至少三個子層的折射率各不相同，且位于最底層和最頂層之間的任一個子層的折射率介于與其相鄰的兩個子層的折射率之間。

2.根據權利要求1所述的透明薄膜，其特征在于，形成所述透明薄膜的材料為氮化硅。

3.一種透明薄膜的制作方法，其特征在于，包括：

設置初始工藝條件，形成所述透明薄膜的初始子層；

按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調節所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續子層。

4.根據權利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述設置初始工藝條件包括：設置初始的生成溫度、生成壓力、功率以及氣體流量。

5.根據權利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調節所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續子層包括：

采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力以及降低功率中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層；

或者，

采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力以及升高功率中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層。

6.根據權利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述按照每一個工藝條件的變化對所述透明薄膜折射率大小的影響，調節所述至少一個工藝條件，形成以所述初始子層為基準、折射率依排列順序依次變化的至少兩個后續子層包括：

采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用升高生成溫度、降低生成壓力、降低功率以及降低硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層；

或者，

采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成第二子層；

一次或多次采用降低生成溫度、升高生成壓力、升高功率以及升高硅烷相對于氨氣的氣體流量中至少一種調節方式，形成一個或多個后續子層。

7.一種顯示用基板，包括：基板以及設置在所述基板上的多個像素結構；所述像素結構分為透光區和非透光區，且所述像素結構中位于所述透光區的部分包括多個透明薄膜，其特征在于，至少一個所述透明薄膜為權利要求1或2所述的薄膜。

8.根據權利要求7所述的顯示用基板，其特征在于，所述顯示用基板為陣列基板，每一像素結構中的一個所述透明薄膜為柵絕緣層，或為鈍化層。

9.一種顯示用基板，包括：基板以及設置在所述基板上的多個像素結構；所述像素結構分為透光區和非透光區，且所述像素結構中位于所述透光區的部分包括多個透明薄膜，其特征在于，所述多個透明薄膜中至少三個相鄰的透明薄膜的折射率依排列順序依次變化。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求7-9任一項所述的顯示用基板。