[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310070789.3 | 申請日: | 2013-03-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103489913A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 奧村秀樹 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類號(hào): | H01L29/78 | 分類號(hào): | H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 夏斌;陳萍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體裝置,具備:
第一導(dǎo)電型的第一半導(dǎo)體層;
第二半導(dǎo)體層,是設(shè)置在上述第一半導(dǎo)體層之上的上述第一導(dǎo)電型的第二半導(dǎo)體層,上述第二半導(dǎo)體層所含的上述第一導(dǎo)電型的雜質(zhì)的濃度比上述第一半導(dǎo)體層所含的上述第一導(dǎo)電型的雜質(zhì)的濃度低;
第三半導(dǎo)體層,是設(shè)置在上述第二半導(dǎo)體層之上的第二導(dǎo)電型的第三半導(dǎo)體層,該第三半導(dǎo)體層具有第一部分和第二部分,該第二部分在與上述第一半導(dǎo)體層和上述第二半導(dǎo)體層的層疊方向垂直的面內(nèi)包圍上述第一部分,上述第三半導(dǎo)體層所含的上述第一導(dǎo)電型的雜質(zhì)的濃度比上述第二半導(dǎo)體層所含的上述第一導(dǎo)電型的雜質(zhì)的上述濃度低;
設(shè)置在上述第一部分之上的第一導(dǎo)電型的第四半導(dǎo)體層;
柵極,從上述第四半導(dǎo)體層朝上述第二半導(dǎo)體層延伸,具有位于上述第二半導(dǎo)體層的下端;
場板電極,設(shè)置在上述柵極的下側(cè),具有位于上述第二半導(dǎo)體層的下端;
絕緣膜,設(shè)置在上述柵極與上述第四半導(dǎo)體層之間、上述柵極與上述第一部分之間、上述柵極與上述第二半導(dǎo)體層之間、上述柵極與上述場板電極之間、以及上述場板電極與上述第二半導(dǎo)體層之間;
第一主電極,與上述第一半導(dǎo)體層電連接;
第二主電極,與上述第三半導(dǎo)體層及上述第四半導(dǎo)體層電連接;以及
絕緣部,至少設(shè)置在上述第一部分與上述第二部分之間,使上述第一部分與上述第二部分電絕緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
還具備上述第二導(dǎo)電型的第一歐姆接觸層,該第一歐姆接觸層貫通上述第四半導(dǎo)體層而到達(dá)上述第三半導(dǎo)體層,并與上述第二主電極歐姆接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述第一歐姆接觸層的雜質(zhì)濃度比上述第三半導(dǎo)體層的雜質(zhì)濃度高。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述第二部分與上述第一主電極電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
還具備外周電極,該外周電極設(shè)置在上述第二部分之上,并與上述第一主電極以及上述第二部分電連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
還具備設(shè)置于上述第二部分并與上述外周電極歐姆接觸的上述第二導(dǎo)電型的第二歐姆接觸層,上述第二歐姆接觸層的雜質(zhì)濃度比上述第三半導(dǎo)體層的雜質(zhì)濃度高。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述第三半導(dǎo)體層具有從上述第一部分朝上述第一半導(dǎo)體層延伸的柱部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
在上述柱部的與上述面平行的平面中的每單位面積的第二導(dǎo)電型雜質(zhì)的有效劑量為N1,上述第二半導(dǎo)體層中的在與上述面平行的方向上與上述柱部對置的對置區(qū)域的與上述面平行的平面中的每單位面積的第一導(dǎo)電型雜質(zhì)的有效劑量為N2時(shí),上述N1以及上述N2滿足1≤(2×N2)/N1≤1.5的關(guān)系,其中,有效劑量的單位為atoms/cm2。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述第一主電極含有V、Ni、Au、Ag以及Sn中的至少任一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述第二主電極含有Al。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
還具備層間絕緣膜,該層間絕緣膜設(shè)置在上述第二主電極與上述柵極之間,使上述第二主電極與上述柵極電絕緣。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述場板電極與上述第二主電極電連接。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述第二半導(dǎo)體層具有沿著上述層疊方向的第一側(cè)面,
上述第三半導(dǎo)體層的上述第二部分具有沿著上述層疊方向的第二側(cè)面,
上述第二側(cè)面與上述第一側(cè)面處于同一面內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體裝置,其中,
上述第一側(cè)面以及上述第二側(cè)面是破碎層。
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