[發明專利]一種用于半導體廠房的潔凈室

有效

• 申請號: 201310069347.7
• 申請日: 2013-03-05
• 公開（公告）號: CN103206101A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發明（設計）人: 楊政諭
• 申請（專利權）人: 亞翔系統集成科技（蘇州）股份有限公司
• 主分類號: E04H5/02
• 分類號: E04H5/02;E04H1/12
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 陶海鋒;陸金星

技術領域

本發明涉及一種用于半導體廠房的潔凈室，尤其是指用于高端半導體的生產場合。?

背景技術

半導體廠房是專門用來制備半導體器件的地方，目前已經得到了廣泛應用。由于半導體器件的特殊性，要求半導體廠房必須設計成潔凈室，以滿足恒溫恒濕以及潔凈度等要求。對于一些高端半導體的生產廠房，如32/28nm，甚至以下的高端制程，不但對潔凈度的要求較高，且對漂浮于空氣中的懸浮化學分子氣體污染更為嚴格。?

現有的用于半導體廠房的潔凈室參見附圖1~3所示，主要包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間，該大型潔凈空間內設有各種加工設備，在各個加工設備15之間形成有一條中央走道1（central?area）和多條生產走道2（bay（production?area）），所述生產走道和中央走道都是空白通道，其間通過儲存倉3（Stocker）的傳遞來實現物料的輸送（在生產走道和儲存倉之間有時候還設有擺放區21（FOUP），用來暫時擺放待處理的半導體器件）；所述生產走道和中央走道之間是連通的；大型潔凈空間的其他區域稱之為服務區（service?area），用來擺放各種加工設備。?

現有技術中，在生產走道（bay）和服務區（service?area）之間是直接連通的，而由于服務區內具有很多加工設備，這些加工設備在生產過程中會產生各種廢氣或腐蝕性氣體（如氯氣、氯化氫等），一旦這些腐蝕性氣體溢出后，這些氣體會跑到生產走道和中央走道的潔凈空間內，從而直接和儲存倉（Stocker）、擺放區（FOUP），以及儲放于其內的半導體產品發生接觸，從而影響了產品的質量。?

針對上述問題，現有技術采用的方法是在潔凈室內設置化學過濾器，但由于潔凈室內的空間較大，很難做到完全清除，且該法的成本極高；這對于一些高端半導體的生產廠房（如32/28nm高端制程）是非常致命的，原因是高端半導體產品對腐蝕性氣體的含量要求更高。?

還有一種方法是在中央走道和所有生產走道的四周圍設有隔板，使其所在的至少一部分架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構；所述生產走道的天花板下設有至少一個通風管，構成潔凈微環境結構的回風通道，隔板與其正下方的擺放區之間具有空隙，構成氣體調節風門；同時在潔凈微環境的頂部設置第二新風輸送系統，使所述獨立的潔凈微環境結構中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓。因而，即使當加工設備中有腐蝕性氣體溢出時，也不會進入上述潔凈微環境結構中，從而避免了上述腐蝕性氣體對生產走道內的儲存倉及產品的影響。?

然而，上述技術方案存在如下問題：(1)?由于在生產走道的四周圍設有隔板，且隔板與其正下方的擺放區之間具有空隙，構成氣體調節風門，即隔板與其正下方的擺放區之間的間距是很小的，因而，隔板將生產走道和服務區分離開來，妨礙了人員的行動；(2)?由于隔板與其正下方的擺放區之間需要形成氣體調節風門，因而隔板距離高架地板的距離難以把握，在實際施工過程中，一般是先將隔板直接延伸至高架地板，然后等加工設備進來之后再截去部分隔板，使隔板與其正下方的擺放區之間形成氣體調節風門，顯然，這種方式費時費力，成本較高。?

因此，開發一種低成本的潔凈室，并能避免腐蝕性氣體影響，對于一些高端半導體的生產廠房具有積極的現實意義。?

發明內容

本發明的目的是提供一種用于半導體廠房的潔凈室。?

為達到上述發明目的，本發明采用的技術方案是：一種用于半導體廠房的潔凈室，包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間內具有中央走道和至少一條生產走道；?

所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環空間，架構空間和潔凈空間之間設有天花板，潔凈空間和循環空間之間設有高架地板和混凝土板；

所述生產走道的四周圍設有隔板，使其所在的至少一部分架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構；所述隔板底部與天花板之間的距離至少為60cm，隔板底部與高架地板之間的距離至少為2m；

所述潔凈微環境的頂部設有上密封板，其底部設有下密封板，所述下密封板的寬度小于上密封板的寬度；

所述生產走道的天花板下設有至少一個通風管，構成潔凈微環境結構的回風通道；連接管的頂端設于天花板上并與所述架構空間連通，其尾端位于潔凈微環境結構的潔凈空間內；

所述潔凈微環境結構內設有化學過濾器；

所述潔凈微環境的頂部設有第二新風輸送系統，使所述獨立的潔凈微環境結構中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓。