[發(fā)明專利]一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310069347.7 | 申請日: | 2013-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN103206101A | 公開(公告)日: | 2013-07-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊政諭 | 申請(專利權(quán))人: | 亞翔系統(tǒng)集成科技(蘇州)股份有限公司 |
| 主分類號: | E04H5/02 | 分類號: | E04H5/02;E04H1/12 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海鋒;陸金星 |
| 地址: | 215126 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 半導(dǎo)體 廠房 潔凈室 | ||
1.?一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間,所述大型潔凈空間內(nèi)具有中央走道(1)和至少一條生產(chǎn)走道(2);
所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間(4)、潔凈空間(5)和循環(huán)空間(6),架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板(7),潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板(10)和混凝土板(11);其特征在于:
所述生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板(8),使其所在的至少一部分架構(gòu)空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu);所述隔板底部與天花板之間的距離至少為60cm,隔板底部與高架地板之間的距離至少為2m;
所述潔凈微環(huán)境的頂部設(shè)有上密封板(13),其底部設(shè)有下密封板(12),所述下密封板的寬度小于上密封板的寬度;
所述生產(chǎn)走道的天花板下設(shè)有至少一個通風(fēng)管(20),構(gòu)成潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的回風(fēng)通道(18);連接管的頂端設(shè)于天花板上并與所述架構(gòu)空間連通,其尾端位于潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的潔凈空間內(nèi);
所述潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有化學(xué)過濾器(16);
所述潔凈微環(huán)境的頂部設(shè)有第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)(17),使所述獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,其特征在于:所述下密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。
3.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,其特征在于:所述化學(xué)過濾器設(shè)于天花板上的風(fēng)機濾器單元(9)的入風(fēng)口處。
4.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,其特征在于:所述中央走道的四周圍設(shè)有隔板,使其所在的至少一部分架構(gòu)空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu);
所述中央走道的內(nèi)圍設(shè)有第二隔板,第二隔板設(shè)于所述隔板的內(nèi)側(cè),隔板和第二隔板之間的天花板鏤空,使隔板和第二隔板之間的架構(gòu)空間和潔凈空間構(gòu)成回風(fēng)通道。
5.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,其特征在于:所述中央走道所在的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的下密封板上設(shè)有氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門。
6.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,其特征在于:所述隔板底部與高架地板之間的距離為2~4m。
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