[發明專利]線性沉積源及包括該線性沉積源的真空沉積裝置

有效

• 申請號: 201310067210.8
• 申請日: 2013-03-04
• 公開（公告）號: CN103774095B
• 公開（公告）日: 2019-02-12
• 發明（設計）人: 金珉鎬;鄭成鎬;崔炫
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 齊葵;周艷玲

1.一種線性沉積源，包括：

坩堝，用于存儲蒸發物質；

加熱部，包圍所述坩堝并加熱所述坩堝；及

側面反射器，包圍所述加熱部的側面，設置為多個，

多個所述側面反射器分別包括：

第一反射器，與所述加熱部隔開而結合，在所述坩堝的高度方向全長范圍內所述第一反射器具有多個第一開口；及

第二反射器，能夠移動地與所述第一反射器結合，在所述坩堝的高度方向全長范圍內所述第二反射器具有多個第二開口，

多個所述側面反射器的開口率是相互獨立地進行調節的。

2.根據權利要求1所述的線性沉積源，其特征在于，

多個所述側面反射器分別進一步包括使所述第二反射器沿第一方向移動的輸送部。

3.根據權利要求2所述的線性沉積源，其特征在于，所述輸送部包括：

輸送軸，一端附著在所述第二反射器；

齒條，設置在所述輸送軸的另一端；

小齒輪，與所述齒條嚙合；

馬達，與所述小齒輪旋轉結合，用于使所述小齒輪旋轉；及

線性導向件，設置在所述第一反射器的外側面，引導所述第二反射器的移動方向。

4.根據權利要求1所述的線性沉積源，其特征在于，

所述第一開口及所述第二開口具有相同的大小和數量。

5.根據權利要求1所述的線性沉積源，其特征在于，所述加熱部包括：

加熱器，用于加熱所述坩堝；及

加熱框，用于支撐所述加熱器。

6.根據權利要求5所述的線性沉積源，其特征在于，

所述第一反射器和所述加熱框通過固定銷結合。

7.根據權利要求5所述的線性沉積源，其特征在于，進一步包括：

溫度傳感部，固定在所述加熱框，并配置于所述坩堝和所述加熱器之間。

8.根據權利要求7所述的線性沉積源，其特征在于，

所述溫度傳感部的數量與多個所述側面反射器的數量相同。

9.根據權利要求1所述的線性沉積源，其特征在于，進一步包括：

冷卻部，配置為與多個所述側面反射器隔開并包圍多個所述側面反射器。

10.一種真空沉積裝置，包括：

工藝腔室；

根據權利要求1至9中任一項所述的線性沉積源，位于所述工藝腔室的內部；及

基板支架，配置為與所述線性沉積源相對。