[發(fā)明專利]曝光裝置、曝光方法及顯示用面板基板的制造方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310066060.9
• 申請(qǐng)日: 2013-02-25
• 公開（公告）號(hào): CN103293874A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 釜石孝生
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立高科技
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G02B27/09;H01L21/027
• 代理公司: 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種在液晶顯示裝置等的顯示用面板基板的制造中，對(duì)涂布有光阻劑的基板照射光束，通過光束掃描基板而在基板上描繪圖案的曝光裝置、曝光方法及使用該曝光裝置與曝光方法的顯示用面板基板的制造方法。

背景技術(shù)

用作顯示用面板的液晶顯示裝置的薄膜晶體管(TFT，Thin?Film?Transistor)基板或彩色濾光片(Colorfilter)基板、等離子體顯示器面板用基板、有機(jī)電致發(fā)光(EL，Electro?luminescence)顯示面板用基板等的制造是：使用曝光裝置，并通過光刻(photolithography)技術(shù)在基板上形成圖案而進(jìn)行。作為曝光裝置，以往有使用透鏡(lens)或鏡片(mirror)將掩模(mask)的圖案(pattern)投影至基板上的投影(project?ion)方式，及在掩模與基板之間設(shè)置微小的間隙(接近間隙(proximitygap))而將掩模的圖案轉(zhuǎn)印至基板上的接近方式。

近年來，正在開發(fā)如下曝光裝置，即，對(duì)涂布有光阻劑(photoresist)的基板照射光束，通過光束掃描基板而在基板上描繪圖案。因?yàn)橥ㄟ^光束掃描基板而在基板上直接描繪圖案，因此無需價(jià)格高的掩模。另外，可通過變更描繪數(shù)據(jù)及掃描的程序，而對(duì)應(yīng)各種顯示用面板基板。

當(dāng)通過光束在基板上描繪圖案時(shí)，對(duì)于光束的調(diào)制是使用數(shù)字微鏡器件(DMD，Digital?Micromirror?Device)等空間光調(diào)制器。DMD是將反射光束的多個(gè)微小的鏡片沿著兩個(gè)方向排列而構(gòu)成，且驅(qū)動(dòng)電路基于描繪數(shù)據(jù)而變更各鏡片的角度，由此調(diào)制從光源供給的光束。通過DMD調(diào)制后的光束是從光束照射裝置的照射光學(xué)系統(tǒng)向基板照射。

在空間光調(diào)制器、或?qū)⑼ㄟ^空間光調(diào)制器調(diào)制后的光束向基板照射的照射光學(xué)系統(tǒng)中，如果因光學(xué)零件的光學(xué)特性而導(dǎo)致在光束中產(chǎn)生偏差，則從光束照射裝置照射的光束的強(qiáng)度分布會(huì)變得不均勻。另外，如果空間光調(diào)制器或照射光學(xué)系統(tǒng)存在位置偏移，則光束的光程會(huì)發(fā)生偏移，從而光束的衍射光的強(qiáng)度分布產(chǎn)生變化。如果從光束照射裝置照射的光束的強(qiáng)度分布存在不均，則導(dǎo)致解像性能變得不均而無法均勻地描繪圖案，從而使描繪品質(zhì)下降。因此，以往維修人員使用檢測裝置通過人工來檢測光束的強(qiáng)度分布，并進(jìn)行必要的調(diào)整，但該作業(yè)會(huì)花費(fèi)大量的時(shí)間與勞力。

針對(duì)此，在專利文獻(xiàn)1中公開有如下技術(shù)：將檢測光束強(qiáng)度的檢測裝置安裝在吸盤(chuck)上，且在光束照射裝置與檢測裝置之間設(shè)置狹縫(slit)，使用狹縫將從光束照射裝置照射的光束的照射區(qū)域分割為相同面積的多個(gè)檢查區(qū)域，由此容易地檢測從光束照射裝置照射的光束的強(qiáng)度分布。

背景技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本專利特開2011-237684號(hào)公報(bào)

使從光束照射裝置照射的光束為完全平行的射束較為困難，在從光束照射裝置照射的光束中混雜著角度輕微不同的成分。通常，專利文獻(xiàn)1中記載的各種狹縫是：從平坦的板上鉆出細(xì)長孔而制作成，但此時(shí)孔的兩端部分的表面的高度略微移位，且移位量在孔的兩端并不完全相同，因此隔著孔而產(chǎn)生微小的階差。另外，狹縫必須相對(duì)于光束的光軸而垂直地設(shè)置，如果設(shè)置略微偏移，則光束的角度會(huì)對(duì)測定造成影響。因此，以往的使用狹縫來檢測光束的強(qiáng)度分布的方法中，即便向孔的兩端部分照射的光束的角度略微不同，通過的光束的量也會(huì)較大地變化，從而難以高精度地檢測光束的強(qiáng)度分布。

另外，當(dāng)利用光束掃描基板時(shí)，在進(jìn)行一次的掃描之后，使基板或光束照射裝置向下一掃描位置步進(jìn)移動(dòng)而進(jìn)行下一次的掃描，且重復(fù)進(jìn)行這些動(dòng)作而對(duì)基板整體進(jìn)行掃描。這樣，在多次利用光束對(duì)基板進(jìn)行掃描的情形時(shí)，如果在與光束對(duì)基板的掃描方向正交的方向上光束的強(qiáng)度分布存在不均，則會(huì)在掃描區(qū)域的邊界處、產(chǎn)生左右的曝光量不同的接縫。在半導(dǎo)體集成電路基板或印刷基板中，即便電路圖案中產(chǎn)生這種接縫，只要電路圖案能電性連接則不會(huì)成為問題。然而，在液晶顯示裝置等顯示用面板基板中，這種接縫可被人眼識(shí)別出來，因此存在導(dǎo)致圖像質(zhì)量下降的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的課題在于可精度佳地檢測從光束照射裝置照射的光束的強(qiáng)度分布。另外，本發(fā)明的課題在于使從光束照射裝置照射的光束的強(qiáng)度分布精度佳地均勻而提高描繪品質(zhì)。尤其，本發(fā)明的課題在于可精度佳地檢測出與光束對(duì)基板的掃描方向正交的方向上的光束的強(qiáng)度分布，而使與光束對(duì)基板的掃描方向正交的方向上的光束的強(qiáng)度分布精度佳地均勻。進(jìn)而，本發(fā)明的課題在于制造高品質(zhì)的顯示用面板基板。