[發明專利]曝光裝置、曝光方法及顯示用面板基板的制造方法

無效

• 申請號: 201310066060.9
• 申請日: 2013-02-25
• 公開（公告）號: CN103293874A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 釜石孝生
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高科技
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/09;H01L21/027
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種曝光裝置，包括：

吸盤，支撐涂布有光阻劑的基板；

光束照射裝置，包含：調制光束的空間光調制器、基于描繪數據而驅動所述空間光調制器的驅動電路、及照射通過所述空間光調制器調制后的光束的照射光學系統；以及

移動單元，使所述吸盤與所述光束照射裝置相對性地移動；且

通過所述移動單元使所述吸盤與所述光束照射裝置相對性地移動，并通過來自所述光束照射裝置的光束掃描所述基板而在所述基板上描繪圖案；

所述曝光裝置的特征在于包括：

測定工具，一面遮蔽從所述光束照射裝置照射的光束的一部分，一面在從所述光束照射裝置照射的光束的照射區域內移動；以及

檢測裝置，接收從所述光束照射裝置照射且由所述測定工具遮蔽一部分的光束，并檢測所接收的光束整體的強度；且

根據由所述檢測裝置接收的光束整體的強度的伴隨著所述測定工具的移動的變化，而檢測通過所述測定工具遮蔽的光束的強度與所述測定工具的位置，從而檢測光束的強度分布，并基于檢測結果來修正光束的強度分布的不均。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

所述測定工具為細長的棒狀，

所述測定工具是沿著來自所述光束照射裝置的光束對所述基板的掃描方向遍及光束的照射區域而配置，且朝向與來自所述光束照射裝置的光束對所述基板的掃描方向為正交的方向而移動。

3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于：

所述測定工具是，來自所述光束照射裝置的光束所入射的表面包含：圓柱表面的一部分、或近似于所述圓柱表面的一部分的曲面。

4.一種曝光方法，以吸盤支撐涂布有光阻劑的基板，

使所述吸盤與光束照射裝置相對性地移動，所述光束照射裝置包含：調制光束的空間光調制器、基于描繪數據而驅動所述空間光調制器的驅動電路、及照射通過所述空間光調制器調制后的光束的照射光學系統，且

通過來自所述光束照射裝置的光束掃描所述基板而在所述基板上描繪圖案；

所述曝光方法的特征在于：

一面使遮蔽從所述光束照射裝置照射的光束的一部分的測定工具、在從所述光束照射裝置照射的光束的照射區域內移動，

一面接收從所述光束照射裝置照射且由所述測定工具遮蔽一部分的光束，并檢測所接收的光束整體的強度，

根據所接收的光束整體的強度的伴隨著測定工具的移動的變化，而檢測通過所述測定工具遮蔽的光束的強度與所述測定工具的位置，從而檢測光束的強度分布，并基于檢測結果來修正光束的強度分布的不均。

5.根據權利要求4所述的曝光方法，其特征在于：

將所述細長的棒狀的測定工具沿著來自所述光束照射裝置的光束對所述基板的掃描方向遍及光束的照射區域而配置，且使所述測定工具朝向與來自所述光束照射裝置的光束對所述基板的掃描方向為正交的方向而移動。

6.根據權利要求4或5所述的曝光方法，其特征在于：

使所述測定工具是，來自所述光束照射裝置的光束所入射的表面為：圓柱表面的一部分或近似于所述圓柱表面的一部分的曲面。

7.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于：

使用根據權利要求1至3中任一項所述的曝光裝置，來進行基板的曝光。

8.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于：

使用根據權利要求4至6中任一項所述的曝光方法，來進行基板的曝光。