[發明專利]一種微納米生產粉塵泄露源的同位素法定位檢測方法

有效

• 申請號: 201310066033.1
• 申請日: 2013-03-01
• 公開（公告）號: CN103175661A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 楊毅;茆平;王正萍
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: G01M3/20
• 分類號: G01M3/20;G01T1/29
• 代理公司: 南京理工大學專利中心 32203
• 代理人: 朱顯國

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技術領域

本發明涉及一種微納米生產粉塵泄露源的同位素法定位檢測方法，特別是一種針對微米納米粉體生產線上粉塵泄漏的檢測方法，以及一種利用碳-14同位素定位生產粉塵泄漏源的檢測方法，以及一種對粉體產品進行同位素標記和泄漏檢測的方法。

背景技術

管道泄漏檢測的方法大致可以分成以下四類：第一類是基于人工巡檢法，由有經驗的技術人員攜帶檢測儀器設備或經過訓練的動物分段對管道進行泄漏檢測和定位。這類方法具有定位精確度高和較低的誤報率的特點，但對生產線管道上細微粉塵的泄漏和肉眼無法涉及的位置泄漏都難以發現的缺點。

第二類是基于超生、磁通、攝像等技術的管內檢漏法（如管內探測球PIG），這類方法具有定位精確度高和較低的誤報率的特點。但由于探測球在管內隨介質漂流，容易發生堵塞、停運等事故，并且探測球比較昂貴，運行成本較高。

第三類是基于電纜檢漏法，目前使用的電纜主要有油溶性電纜、滲透性電纜、分布式傳感器電纜三種，電纜與管道平行鋪設，當泄漏的物質滲入電纜后，會引起電纜特征的變化，以此來實現對泄漏的檢測和定位。這類方法非常靈敏，對于小漏和緩慢泄漏均有較好的效果，但電纜價格和施工費用都較高，電纜一旦沾染上泄漏物后就要進行更換，它多用于液態烴類燃料的泄漏檢測，不適合于對粉塵泄漏的檢測。

第四類方法是放射性同位素法，即使用對人體沒有危害的放射性氣體進行檢漏。用混入少量放射性氣體的空氣，將試驗容器加壓。如有泄漏，放射性氣體就會隨空氣一起漏出。用閃爍計數管等檢測射線，從而可以知道泄漏地點和大致的泄漏量。檢測時，如果一邊移動計數管，一邊尋找最大計數的位置和方向，就可以準確地判斷出泄漏位置。這類方法一般只針對氣體泄漏的檢測，目前技術中對粉塵泄漏具有不完全的適用性，還沒有應用于粉塵泄漏的檢測。

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發明內容

本發明的目的在于提供一種微納米生產粉塵泄露源的同位素法定位檢測方法，可準確定位各種復雜微納米粉塵生產線上粉塵泄漏源位置，并可檢測生產區域3維空間中粉塵濃度的分布情況。

本發明主要針對微米納米粉體生產線上粉塵泄漏源的同位素檢測方法，主要包括同位素標記化合物與粉體表面活性劑的均勻混合，半成品粉體的表面改性，同位素標記改性后粉體的生產，生產過程中放射性粉塵的濃度檢測，生產區域粉塵濃度的空間分布圖繪制等環節。

本發明的技術方案是：一種微納米生產粉塵泄漏源的同位素檢測方法，具體步驟如下：

步驟1：以同位素標記多肽代替表面改性劑中的一部分多肽，并與表面改性劑中其他成分均勻混合。

步驟2：利用含有同位素標記多肽的表面改性劑，對半成品微納米粉體進行均勻改性和標記。

步驟3：將標記改性后的微納米粉體在常規氣流粉碎機上正常生產。

步驟4：對生產線沿線區域和整個車間，進行同位素放射性檢測。

步驟5：基于車間內放射性強度數據，繪制生產車間內粉塵濃度的分布圖，并根據粉塵濃度分布，定位粉塵泄漏源和粉塵集中分布區域。

本發明與現有技術相比，其顯著優點：（1）可準確定位到各種復雜生產線粉塵的泄漏源位置；（2）可對整個車間的粉塵濃度建立網絡結構，為企業建立粉塵的重點控制區提供數據支持；（3）由于粉塵并不完全隨氣體流動，基于粉塵放射性的檢測比基于放射性氣體的檢測更符合實際，具有更高的準確性和可靠性。（4）將同位素標記于其它含碳表面活性劑上存在技術復雜和成本較高的原因，本發明直接將商品化同位素標記化合物與其他表面改性劑均勻混合，有效地降低了成本。

附圖說明

圖1為較低標記濃度時生產粉塵的濃度分布示意圖。

圖2為較高標記濃度時生產粉塵的濃度分布示意圖。

下面通過實施例和對比例進一步說明本發明。

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具體實施方式

本發明的一種微納米生產粉塵泄漏源的同位素檢測方法，具體方法步驟如下：