[發(fā)明專(zhuān)利]一種鍍鈀鍍銀的雙鍍層鍵合銅絲的制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310065261.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103219246A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂燕翔;居勤坤;史仁龍;萬(wàn)傳友;彭芳美;周?chē)?guó)忠 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 溧陽(yáng)市虹翔機(jī)械制造有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/48 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/48;C25D5/10;C25D7/06 |
| 代理公司: | 南京天翼專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 32112 | 代理人: | 朱戈勝 |
| 地址: | 213351 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鍍銀 鍍層 銅絲 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體集成電路芯片封裝領(lǐng)域,具體來(lái)說(shuō)涉及一種半導(dǎo)體集成電路芯片鍵合用雙鍍層銅絲的制造方法。?
背景技術(shù)
半導(dǎo)體集成電路制造完成后所得的芯片雖然已經(jīng)具有特定的功能,但是要實(shí)現(xiàn)該功能,必須通過(guò)與外部電子元件的連接。而半導(dǎo)體集成電路芯片需要經(jīng)過(guò)與封裝體的鍵合工序,最終得到芯片封裝,如此才能通過(guò)封裝的引腳與外部電子元件連接。在芯片與封裝體的鍵合工藝中,都通過(guò)鍵合線(xiàn)將芯片上的焊盤(pán)與封裝體的引腳進(jìn)行電連接。所以鍵合線(xiàn)是實(shí)現(xiàn)芯片功能必不可少的材料。現(xiàn)有技術(shù)中,因?yàn)榧兘鸬膶?dǎo)電性能優(yōu)異,鍵合線(xiàn)多由純金制成。但隨著黃金資源的日益稀缺、價(jià)格持續(xù)攀升,封裝成本大幅上升。為此業(yè)內(nèi)技術(shù)人員研發(fā)出鍍金銅絲產(chǎn)品來(lái)替代金絲的產(chǎn)品。該鍍金銅絲是通過(guò)在銅芯上鍍金來(lái)形成,這種產(chǎn)品兼顧了金的優(yōu)異導(dǎo)電性能,而且采用銅來(lái)作為芯體,從而可以減少金的用量,節(jié)約了成本。然而,鍍金鍵合銅絲雖然價(jià)格低廉,且在拉伸、剪切強(qiáng)度和延展等方面的性能優(yōu)于金絲,但隨著芯片行業(yè)的快速小型化、多引腳高密度化,鍍金鍵合銅絲越來(lái)越無(wú)法滿(mǎn)足需求。這是因?yàn)殂~的導(dǎo)電性能雖然良好,但相對(duì)于金來(lái)說(shuō),其電阻率較高,這導(dǎo)致其在體積非常小的芯片封裝中所產(chǎn)生的熱量無(wú)法忽視。因而有必要研究一種即經(jīng)濟(jì)又性能優(yōu)異的替代鍵合絲。
并且,中國(guó)授權(quán)專(zhuān)利CN102130067B公開(kāi)了一種表面鍍鈀鍵合銅絲,這種鍍鈀鍵合銅絲由于采用價(jià)格相對(duì)低廉的鈀作為鍍層,因此相對(duì)于鍍金鍵合銅絲來(lái)說(shuō),其制造成本以及應(yīng)用成本相對(duì)更低,但是這種鍍鈀鍵合銅絲由于采用金屬鈀作為鍍層,因此相對(duì)于鍍金鍵合銅絲來(lái)說(shuō),其導(dǎo)電性能存在不足。中國(guó)授權(quán)實(shí)用新型專(zhuān)利CN201788710U公開(kāi)了一種高導(dǎo)光亮復(fù)合鍍銀銅絲,其采用金屬銀作為銅絲的鍍層,由于銀的優(yōu)良導(dǎo)電性能以及其相對(duì)適中的價(jià)格,因此其能在一定范圍內(nèi)取代鍍金和鍍鈀鍵合銅絲。但是這種鍍銀鍵合銅絲同樣存在不足,例如延展性不好,在加工過(guò)程中容易被破壞。
發(fā)明內(nèi)容:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種具有雙鍍層的鍵合銅絲及其制造方法,以克服現(xiàn)有鍍金鍵合銅絲生產(chǎn)成本高、鍍銀鍵合銅絲延展性能不好的缺陷。
本發(fā)明提出的雙鍍層鍵合銅絲具有三層結(jié)構(gòu),最內(nèi)層為在高純銅中添加了微量金屬元素的銅芯,在該銅芯的表面鍍有純鈀導(dǎo)電層,在純鈀導(dǎo)電層的表面鍍有純銀導(dǎo)電層;其中所述微量金屬元素為錫、鎂和鋁。
其中,所述高純銅的純度大于99.9995%,以所述雙鍍層鍵合銅絲為100重量份,即100wt%計(jì),其中銅芯中純銅的含量為91.2~92.8wt%,微量元素總體含量為1wt%,純鈀導(dǎo)電層的含量為3.3~4.2wt%,純銀導(dǎo)電層的含量為2~4.5wt%。
其中,所述微量金屬元素的總含量為1wt%,包括0.5wt%的錫、0.3wt%的鎂以及0.2wt%的鋁。
其中,所述純鈀的純度大于99.99%,所述純銀的純度大于99.99%。
附圖說(shuō)明:
圖1為本發(fā)明提出的雙鍍層結(jié)構(gòu)的鍵合銅絲。
具體實(shí)施方式:
下面通過(guò)具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明提出的雙鍍層鍵合銅絲及其制造方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
實(shí)施例
如圖1所示,本發(fā)明提出的雙鍍層鍵合銅絲包括銅芯1、鍍鈀層2、鍍銀層3。其中,銅芯1為采用純度大于99.9995%的高純銅為原料,通過(guò)添加錫、鎂和鋁進(jìn)行單晶熔煉而成;鍍鈀層2采用純度大于99.99%的金屬鈀,通過(guò)電鍍工藝將其鍍?cè)阢~芯的表面上;鍍銀層3采用純度大于99.99%的金屬銀,通過(guò)電鍍工藝將其電鍍?cè)阱冣Z層2的表面上。其中,以最終制得的含有鍍鈀層和鍍銀層的雙鍍層鍵合銅絲為100重量份計(jì),即100wt%計(jì),銅芯中純銅的含量為91.2~92.8wt%,純鈀導(dǎo)電層的含量為3.3~4.2wt%、純銀導(dǎo)電層的含量為2~4.5wt%,錫的含量為0.5wt%、鎂的含量為0.3wt%、鋁的含量為0.2wt%。
下面介紹制造本發(fā)明雙鍍層鍵合銅絲的具體工藝方法,該方法以先后次序依次包括如下步驟:
(1)以最終制得的含有鍍鈀層和鍍銀層的雙鍍層鍵合銅絲為100重量份計(jì),即100wt%計(jì),將91.2~92.8wt%的純度大于99.9995%的高純銅置入熔煉爐熔化,并加入0.5wt%的錫、0.3wt%的鎂、0.2wt%的鋁,經(jīng)過(guò)單晶熔煉拉伸成銅芯,銅芯的直徑大約為8mm,并且該銅芯的縱向和橫向晶粒數(shù)均為1個(gè);?
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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