[發明專利]制備有機發光裝置的方法

有效

• 申請號: 201310060186.5
• 申請日: 2013-02-26
• 公開（公告）號: CN103296224B
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 樸鎮宇
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司11286
• 代理人: 韓明星,張川緒

本申請要求于2012年3月2日在韓國知識產權局提交的第10-2012-0022041號韓國專利申請的優先權和權益，該韓國專利申請的公開通過引用全部包含于此。

技術領域

本發明的實施例涉及一種制備有機發光裝置的方法。

背景技術

有機發光裝置是可提供多色圖像的自發射裝置，它具有諸如寬視角、優良的對比度、快速響應、增大的明度以及優異的驅動電壓特性的優點。

有機發光裝置包括有機發射單元，有機發射單元包括第一電極、有機層和第二電極。由于有機發射單元例如易受到外部環境中的元素(例如，氧和濕氣)的影響，所以需要密封有機發射單元以與外部環境隔開的密封結構。

此外，還期望開發一種薄的有機發光裝置和/或柔性的有機發光裝置。

發明內容

本發明的實施例提供了一種制備包括薄膜包封層的有機發光裝置的方法，所述薄膜包封層具有使與外部環境分開的優異的密封特性和延長的時間的柔性特性。

根據本發明的一方面，提供了一種制備有機發光裝置的方法，所述方法包括：在基底上形成有機發射單元；形成薄膜包封層，所述薄膜包封層接觸環境元件并包括至少一個無機層，所述至少一個無機層包括低溫粘度轉變(LVT)無機材料，其中，利用包括下述步驟的工藝形成所述至少一個無機層：通過將所述LVT無機材料設置在所述環境元件位于其上的所述有機發射單元上來形成包括所述LVT無機材料的預無機層；在高于所述LVT無機材料的粘度轉變溫度的溫度下對所述預無機層執行第一恢復處理；對已經經歷過所述第一恢復處理的所述預無機層執行第二恢復處理，以提高所述環境元件和所述LVT無機材料之間的結合力并提高所述LVT無機材料之間的結合力。

所述環境元件可包括在形成所述有機發射單元的過程中出現的雜質顆粒。

所述LVT無機材料的粘度轉變溫度可為使所述LVT無機材料表現出流體性質所需的最低溫度。

所述LVT無機材料的粘度轉變溫度可低于所述有機發射單元的材料的變性溫度。

所述LVT無機材料的粘度轉變溫度可低于所述有機發射單元的多種材料的變性溫度的最小值。

所述LVT無機材料可包括錫氧化物。

所述LVT無機材料還可包括磷氧化物、磷酸硼、錫氟化物、鈮氧化物和鎢氧化物中的至少一種。

所述LVT無機材料可包括以下物質中的至少一種：SnO；SnO和P₂O₅；SnO和BPO₄；SnO、SnF₂和P₂O₅；SnO、SnF₂、P₂O₅和NbO；SnO、SnF₂、P₂O₅和WO₃。

可利用濺射、真空沉積、低溫沉積、電子束涂覆或離子鍍覆提供所述LVT無機材料。

所述第一恢復處理可包括在所述LVT無機材料的粘度轉變溫度和所述有機發射單元的材料的變性溫度之間的溫度下對所述預無機層進行熱處理。

所述第一恢復處理可包括在所述LVT無機材料的粘度轉變溫度和所述有機發射單元的多種材料的變性溫度的最小值之間的溫度下對所述預無機層進行熱處理。

所述第一恢復處理可包括在大約80℃至大約132℃的范圍內的溫度下對所述預無機層進行熱處理大約1小時至大約3小時。

所述第一恢復處理可在真空下或在惰性氣體氣氛下進行。

所述第二恢復處理可包括化學處理、等離子體處理、其中室包含氧的熱室處理或者其中室包含氧和濕氣的熱室處理。

所述第二恢復處理可包括化學處理，并且可使用從由酸溶液、堿溶液和中性溶液組成的組中選擇的至少一種對已經經歷第一恢復處理的預無機層進行處理。

所述堿溶液可包括硝酸鹽。

第二恢復處理可包括等離子體處理，并且可在真空下使用O₂等離子體、N₂等離子體和Ar等離子體中的至少一種對已經經歷第一恢復處理的預無機層進行處理。

第二恢復處理可包括等離子體處理，并且可在大氣壓力下使用O₂等離子體、N₂等離子體和Ar等離子體中的至少一種對已經經歷第一恢復處理的預無機層進行處理。