[發明專利]真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置

有效

• 申請號: 201310052836.1
• 申請日: 2013-02-18
• 公開（公告）號: CN103996417A
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發明（設計）人: 武榮庭;郇慶;閆凌昊;高鴻鈞
• 申請（專利權）人: 中國科學院物理研究所
• 主分類號: G12B5/00
• 分類號: G12B5/00
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;王穎

技術領域

本發明涉及一種真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，尤其適用于電子束蒸發源（EBE）、電子加熱式蒸發源、可移動式樣品臺以及真空內光學聚焦調節等需要進行真空精密線性推進操作的系統。

背景技術

“真空”是指低于一個大氣壓的氣體狀態，氣壓越低真空度越高。在真空狀態下，單位體積中的氣體分子數大大減少，分子平均自由程增大，氣體分子之間、氣體分子與其它粒子之間的相互碰撞也隨之減少。這些特點被廣泛應用于科研、生產的許多部門中。例如：加速器，電子器件，大規模集成電路，熱核反應，空間環境模擬，真空冶煉，食品包裝等。

另外，在真空環境中，樣品表面吸附了很少的分子，能夠使樣品長時間處于比較干凈的狀態，對于研究樣品表面的物理、化學、生物等性質非常關鍵。在真空環境下，對樣品進行生長、制備、表征和物性測量等操作所構成的真空系統越來越多的廣泛應用于物理、化學、材料、半導體和生命科學等各個研究領域。

在真空系統中，不可避免的要對樣品進行線性推進、角度旋轉等機械操作，目前多數真空系統兼容的線性推進裝置功能比較單一，不能提供真空導入功能。而唯一一種同時提供線性推進和真空導入功能的，是John?T.Yates,Jr在1997年編纂的圖書《Experimental?Innovations?in?Surface?Science：A?Guide?to?Practical?Laboratory?Methods?andInstruments》P27所介紹的裝置。但是由于偏軸驅動的設計，使得線性推進過程中施力不均勻，線性推進精度偏低，并且對安裝角度有一定的要求，特別在空間比較有限的地方的應用就受到了限制，從而在使用效果和安裝的方便性上大大折扣。

發明內容

針對上述真空系統兼容的線性推進裝置存在的問題，本發明提供一種真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，包括：一波紋管和一波紋管的同軸線性驅動組件；該波紋管的同軸線性驅動組件包含一左旋驅動件、一連接件、以及一右旋驅動件，該連接件的兩端分別連接該左旋驅動件以及該右旋驅動件，該左旋驅動件、該連接件以及該右旋驅動件均為中空式結構，且形成一容置空間，該波紋管設置在該容置空間內，且該波紋管的兩端分別固定在該左旋驅動件和該右旋驅動件上。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該連接件設置在該左旋驅動件以及該右旋驅動件的外側。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該連接件設置在該左旋驅動件以及該右旋驅動件的內側。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該左旋驅動件外壁含有一左旋外螺紋，該右旋驅動件外壁含有一右旋外螺紋，在該連接件一端內側含有一左旋內螺紋，另一端內側含有一右旋內螺紋。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該左旋驅動件外壁含有一左旋外凹槽，該右旋驅動件外壁含有一右旋外凹槽，在該連接件一端內側含有一左旋內凹槽，另一端內側含有一右旋內凹槽，該左旋外凹槽與該左旋內凹槽之間正好可以形成一通道，在該通道中配有多個滾珠；該右旋外凹槽與該右旋內凹槽之間正好可以形成一通道，在該通道中配有多個滾珠。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該波紋管與該左旋驅動件通過多個固定點固定，該多個固定點均勻的分布在一個圓周上；該波紋管與該右旋驅動件通過多個固定點固定，這些固定點均勻的分布在一個圓周上。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該左旋驅動件與該右旋驅動件兩者以相同的步調相對連接件旋轉。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該左旋內螺紋、該右旋內螺紋、該左旋外螺紋以及該右旋外螺紋均采用精密螺紋副。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中在該左旋驅動件和右旋驅動件的外壁上設有一推進刻度；該連接件外側圓周設有n等分刻度，n為大于1的整數。

上述的真空系統兼容的同軸精密線性推進裝置，其中該左旋驅動件及該右旋驅動件上設有法蘭盤，且該法蘭盤通過多個螺釘固定在該左旋驅動件和該右旋驅動件上。