[發(fā)明專利]存儲單元、形成存儲單元的方法以及操作存儲單元的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310050079.4 | 申請日: | 2013-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN103247338A | 公開(公告)日: | 2013-08-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | W.阿勒斯;M.耶弗雷莫夫;J.奧特斯泰特;C.彼得斯;R.韋斯納 | 申請(專利權(quán))人: | 英飛凌科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G11C16/06 | 分類號: | G11C16/06;G11C16/02 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 馬永利;劉春元 |
| 地址: | 德國瑙伊比*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 存儲 單元 形成 方法 以及 操作 | ||
技術(shù)領域
各種實施例總體上涉及存儲單元、用于形成存儲單元的方法、以及用于操作存儲單元的方法。
背景技術(shù)
與傳統(tǒng)浮柵FLASH單元相比,許多創(chuàng)新的非易失性存儲器NVM應用和概念(例如磁阻隨機存取存儲器MRAM,例如電阻隨機存取存儲器RRAM,例如導電橋隨機存取存儲器CBRAM,例如相變存儲器PCRAM)經(jīng)受非常小的讀電流窗口。在存儲單元的壽命內(nèi),存儲單元可能經(jīng)受不穩(wěn)定的讀電流窗口,尤其是當考慮較大單元場中的典型地大的分布寬度時。直到現(xiàn)在,已經(jīng)試圖使小的讀窗口可使用,例如通過可變參考,通過使用更強的糾錯碼ECC、復雜程序算法,以及通過對規(guī)范(例如溫度和周期數(shù))的限制。遺憾的是,存儲器的出錯率如此高,以致針對更高級或復雜的應用還未考慮它們。
例如,自旋轉(zhuǎn)移力矩磁隨機存取存儲器STT-MRAM單元在經(jīng)擦除的和經(jīng)寫入的狀態(tài)之間具有低電阻差,典型地具有100%電阻改變,例如2k歐姆對4k歐姆。為了在讀取期間區(qū)分電平,必須將讀出放大器的參考電流精確地定位在兩個電平之間,即精確地定位在經(jīng)擦除的和經(jīng)寫入的狀態(tài)之間。STT-MRAM陣列中面臨的挑戰(zhàn)在于:盡管通常可以使用經(jīng)擦除的且經(jīng)編程的參考單元的組合來生成參考電流(這可能有助于讀取所選單元的狀態(tài)),但是如果全部存儲器的電流分布為寬的或者靠近,則它們可能失效。
發(fā)明內(nèi)容
各種實施例提供一種存儲單元,其包括:第一二端存儲元件;第二二端存儲元件;控制器電路,其被配置成將所述第一二端存儲元件編程(program)至一個或多個狀態(tài)并將所述第二二端存儲元件編程至一個或多個狀態(tài),其中所述第一二端存儲元件的狀態(tài)和所述第二二端存儲元件的狀態(tài)相互依賴;以及測量電路,其被配置成測量與所述第一二端存儲元件的狀態(tài)相關聯(lián)的第一二端存儲元件信號和與所述第二二端存儲元件的狀態(tài)相關聯(lián)的第二二端存儲元件信號之間的差信號。
附圖說明
在附圖中,相同的附圖標記一般指代貫穿不同視圖的相同部分。附圖不一定是按比例的,而是一般將重點放在說明本發(fā)明的原理上。在下列描述中,參照下列附圖來描述本發(fā)明的各種實施例,在附圖中:
圖1示出根據(jù)一個實施例的存儲單元;
圖2示出根據(jù)一個實施例的存儲單元;
圖3示出根據(jù)一個實施例的用于操作存儲單元的方法;
圖4A至4C示出根據(jù)一個實施例的用于操作存儲單元的方法;
圖5示出根據(jù)一個實施例的存儲單元;
圖6示出根據(jù)一個實施例的讀電路;
圖7示出根據(jù)一個實施例的用于形成存儲單元的方法;
圖8示出根據(jù)一個實施例的存儲單元;
圖9示出根據(jù)一個實施例的存儲單元;
圖10示出根據(jù)一個實施例的存儲單元;
圖11示出根據(jù)一個實施例的存儲單元。
具體實施方式
下列詳細描述參照了附圖,所述附圖通過例圖(illustration)示出其中可以實踐本發(fā)明的具體細節(jié)和實施例。
本文中使用詞“示例性”來指“用作實例、例子、或例圖”。本文中描述為“示例性”的任何實施例或設計不一定被解釋為相對于其他實施例或設計是優(yōu)選的或有利的。
本文中用來描述“在”側(cè)或表面“上方”形成特征(例如層)的詞“在…上方”可以被用來指,可以“直接地在”所暗指的側(cè)或表面“上”(例如與其直接接觸)形成該特征(例如該層)。本文中用來描述“在”側(cè)或表面“上方”形成特征(例如層)的詞“在…上方”可以被用來指,可以“間接地在”所暗指的側(cè)或表面“上”形成該特征(例如該層),其中一個或多個附加層被布置在所暗指的側(cè)或表面與所形成的層之間。
各種實施例針對差分感測提供使用新興非易失性存儲器(例如STT-MRAM,例如CBRAM,例如RRAM)的二元件存儲單元。
各種實施例在1比特存儲單元中提供兩個互補存儲元件,其中用于確定存儲單元的狀態(tài)的讀(READ)窗口可以被加倍。
各種實施例提供差分讀取概念,該概念可以避免使用全局參考(即將存儲單元與全局參考單元的狀態(tài)進行比較)以用于讀取存儲單元的狀態(tài),并且還可以優(yōu)化存儲單元的面積。
各種實施例提供可在每個單元中包括局部參考元件的存儲單元。
圖1示出根據(jù)一個實施例的存儲單元102。
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