[發(fā)明專利]基板處理裝置和基板處理方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310048165.1
• 申請(qǐng)日: 2013-02-06
• 公開（公告）號(hào): CN103247564A
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 植田稔彥;古家高廣
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/687
• 分類號(hào): H01L21/687
• 代理公司: 北京尚誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及基板處理裝置和基板處理方法，例如，涉及在載物臺(tái)上載置涂敷有處理液的被處理基板，對(duì)上述基板實(shí)施規(guī)定的處理的基板處理裝置和基板處理方法。

背景技術(shù)

例如，在FPD（Flat?Panel?Display，平板顯示器）的制造中，在玻璃基板等被處理基板形成規(guī)定的膜之后，涂敷作為處理液的光致抗蝕劑（以下，稱為抗蝕劑）而形成抗蝕膜，根據(jù)電路圖案，對(duì)抗蝕膜進(jìn)行曝光，對(duì)其進(jìn)行顯影處理，即，通過光刻工序形成電路圖案。

在上述抗蝕膜的形成工序中，在向基板涂敷抗蝕劑之后，進(jìn)行通過減壓使涂敷膜干燥的減壓干燥處理。

目前，作為進(jìn)行這樣的減壓干燥處理的裝置，例如，已知有如圖12所示的專利文獻(xiàn)1中所公開的減壓干燥單元。

如圖12所示的減壓干燥單元50構(gòu)成為，通過相對(duì)于下部腔室51關(guān)閉上部腔室52，在內(nèi)部形成處理空間。在該處理空間中，設(shè)有用于載置被處理基板的載物臺(tái)53。另外，在載物臺(tái)53設(shè)有用于載置基板G的多個(gè)固定銷54。

該減壓干燥處理單元50中，當(dāng)搬入在被處理面涂敷有抗蝕劑的基板G時(shí)，基板G通過固定銷54載置于載物臺(tái)53上。

接著，通過相對(duì)于下部腔室51關(guān)閉上部腔室52，形成基板G置于氣密狀態(tài)的處理空間內(nèi)的狀態(tài)。

接著，處理空間內(nèi)的氣氛被從排氣口55排出，形成規(guī)定的減壓氣氛。通過使該減壓狀態(tài)維持規(guī)定的時(shí)間，使抗蝕液中的稀釋劑等溶劑一定程度地蒸發(fā)，緩慢放出抗蝕液中的溶劑，對(duì)抗蝕劑不產(chǎn)生不良影響地促進(jìn)抗蝕劑的干燥。

另外，如上所述的減壓干燥單元50中，即使隔著固定銷54，在基板G和載置臺(tái)53之間幾乎沒有間隙，因此，難以通過搬送機(jī)械臂（無圖示）將基板G直接載置于載物臺(tái)53上。因此，如圖13（a）所示，設(shè)置能夠相對(duì)于載置臺(tái)53升降的多個(gè)支承銷56。這樣，在將基板G載置于載置臺(tái)53上時(shí)，基板G暫時(shí)載置于配置在上升位置的多個(gè)支承銷56上。這樣，如圖13（b）所示，通過使上述支承銷56下降移動(dòng)，基板G從支承銷56向載物臺(tái)53上交接，被載置于載物臺(tái)53上。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2000-181079號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

但是，上述減壓干燥單元50中，如果上述固定銷54、支承銷56位于基板的像素形成區(qū)域內(nèi)，則有與上述銷的接觸痕跡轉(zhuǎn)印到抗蝕膜上的擔(dān)心，因此，優(yōu)選這些銷支承上述像素形成區(qū)域外的基板周緣部。

但是，由于近年來基板G大型化并且薄型化，因此，如果將上述基板G載置于載物臺(tái)53時(shí)利用多個(gè)支承銷56支承基板周緣部，則存在不能穩(wěn)定保持基板G的課題。即，如圖14（a）所示，如果利用多個(gè)支承銷56支承基板周緣部，則基板中央部Ga由于自重向下方下沉，由于其影響，有時(shí)基板周緣部彎曲，基板緣部產(chǎn)生從支承銷56浮起的部位60。

另外，如上所述基板緣部與支承銷56不接觸的部位60，根據(jù)將基板G從搬送機(jī)械臂（無圖示）向支承銷56上交接時(shí)的各種因素（多個(gè)支承銷56與基板G接觸的順序的不同等），每個(gè)基板不同（參照?qǐng)D14（b））。具體地說明，利用支承銷56支承基板G的周緣部時(shí)，存在基板G彎曲成如圖14（a）所示的形狀的情況和彎曲成如圖14（b）所示的形狀的情況。即，單片處理的多個(gè)基板G呈各自不同的彎曲形狀，在載物臺(tái)53上載置基板G時(shí)，存在頻繁發(fā)生基板從規(guī)定的位置錯(cuò)開的位置錯(cuò)位的問題。

本發(fā)明是基于上述的課題而完成的，其目的在于提供一種基板處理裝置和基板處理方法，上述基板處理裝置中，在載物臺(tái)上載置被處理基板，對(duì)上述基板實(shí)施規(guī)定的處理，在對(duì)載物臺(tái)搬入搬出上述基板時(shí)，能夠穩(wěn)定地保持基板，防止基板的位置錯(cuò)位。

用于解決課題的方法

為了解決上述課題，本發(fā)明的基板處理裝置中，在載物臺(tái)上載置被處理基板，對(duì)上述被處理基板實(shí)施規(guī)定的處理，該基板處理裝置的特征在于，具備：能夠載置上述被處理基板的上述載物臺(tái)；能夠升降地設(shè)置于上述載物臺(tái)的周圍、在上升位置向上述載置臺(tái)的上方突出支承上述被處理基板的周緣部的多個(gè)支承銷；和使上述多個(gè)支承銷升降移動(dòng)的支承銷升降機(jī)構(gòu)，在上述多個(gè)支承銷的上升位置，分別設(shè)置于上述載物臺(tái)的至少一對(duì)相對(duì)的邊側(cè)的上述多個(gè)支承銷，沿著上述載物臺(tái)的邊配置為支承位置的高度凹凸不同。

另外，上述多個(gè)支承銷具有高度相互不同的第一支承銷和第二支承銷，優(yōu)選上述第一支承銷和上述第二支承銷沿著上述載物臺(tái)的邊交替配置。