[發(fā)明專利]一種定點(diǎn)修飾N-末端的聚乙二醇化生長激素拮抗劑及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310047046.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-02-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103087182A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡濤;吳玲;蘇志國;馬光輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院過程工程研究所 |
| 主分類號(hào): | C07K14/61 | 分類號(hào): | C07K14/61;C07K1/107 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 定點(diǎn) 修飾 末端 聚乙二醇 化生 激素 拮抗劑 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及生物醫(yī)藥領(lǐng)域,具體地,本發(fā)明涉及一種定點(diǎn)修飾N-末端的聚乙二醇(PEG)化生長激素拮抗劑,以及其制備方法。
背景技術(shù)
生長激素的主要作用在于促進(jìn)生長,涉及調(diào)節(jié)身體的生長,以及調(diào)節(jié)蛋白質(zhì)、碳水化合物和脂類的代謝。生長激素的代謝作用由胰島素樣生長因子-I(IGF-I)介導(dǎo)。垂體生長激素腺瘤是常見的垂體腫瘤之一,由于生長激素(GH)過度分泌、IGF-I濃度增高,導(dǎo)致巨人癥和肢端肥大癥,其病亡率可高達(dá)20%-30%。目前的治療方法主要是減少或抑制生長激素的分泌,以降低生長激素的水平,防止生長激素的過度分泌,但是治療效果不佳。
生長激素拮抗劑(GHA)可通過阻止生長激素與其受體(GHR)的結(jié)合,阻止后續(xù)的信號(hào)轉(zhuǎn)導(dǎo),降低血漿IGF-I的水平,從而達(dá)到治療的目的。GHA是通過置換人生長激素(hGH)的8個(gè)氨基酸殘基,并用基因工程的方法表達(dá)出來的一種蛋白質(zhì)。這8個(gè)氨基酸殘基在人生長激素第1結(jié)合位點(diǎn)內(nèi),對(duì)生長激素與GHR的結(jié)合功能特別重要。其中,第18位天冬氨酸取代組氨酸(H18D)、第21位天冬酰胺取代組氨酸(H21N)、第167位天冬酰胺取代精氨酸(R167N)、第168位丙氨酸取代賴氨酸(K168A)、第171位絲氨酸取代天冬氨酸(D171S)、第172位精氨酸取代賴氨酸(K172R)、第174位絲氨酸取代谷氨酸(E174S)和第179位蘇氨酸取代異亮氨酸(I179T)。通過氨基酸的置換,使第1結(jié)合位點(diǎn)與GHR的親和力大為增加。
此外,B2036是一種人生長激素的9個(gè)氨基酸殘基被置換的蛋白質(zhì)。除了置換上述8個(gè)氨基酸殘基以外,還有第1結(jié)合位點(diǎn)的第120位甘氨酸取代賴氨酸(G120K)。然而,B2036分子與GHR二聚體的親和力卻與人生長激素相當(dāng)。這是由于盡管B2036的第1結(jié)合位點(diǎn)與GHR的親和力有所增加,但第2結(jié)合位點(diǎn)幾乎失去了與GHR的結(jié)合能力,從而能夠抑制生長激素的生物學(xué)功能。由于B2036在體內(nèi)的血漿半衰期短,僅為15-20分鐘,所以不能持續(xù)阻斷生長激素的功能。在臨床使用時(shí)需要加大給藥量和給藥次數(shù),并帶來一定的毒副作用,增加了病人的痛苦與經(jīng)濟(jì)負(fù)擔(dān)。
聚乙二醇(PEG)修飾被認(rèn)為是一種能有效克服蛋白質(zhì)藥物血漿半衰期短的方法之一。這是因?yàn)镻EG自身有著巨大的優(yōu)勢(shì),它是一種線性的、在溶液中可自由卷曲且不帶電荷的聚合物,具有無毒、微弱的抗原性和良好的生物相容性,已被美國FDA批準(zhǔn)用于人體。目前已有多種PEG修飾的蛋白質(zhì)藥物被美國FDA批準(zhǔn)上市,如PEG修飾的干擾素α2a(Pegasys,Roche公司)等。使用PEG共價(jià)修飾蛋白質(zhì),可以延長蛋白質(zhì)的體內(nèi)循環(huán)半衰期,降低蛋白質(zhì)的免疫原性,增加蛋白質(zhì)的溶解性以及改變蛋白質(zhì)在人體內(nèi)的生物學(xué)分布。PEG修飾蛋白質(zhì)和多肽主要是氨基修飾(包括N端氨基的?;揎?、賴氨酸側(cè)鏈氨基的?;揎?、N端氨基的烷基化修飾)、羧基修飾以及巰基修飾等。其中,定點(diǎn)修飾主要包括N-末端修飾和半胱氨酸殘基修飾。N-末端修飾是通過PEG醛與一定量的還原劑如氰基硼氫化鈉(NaCNBH3)在偏酸的環(huán)境下進(jìn)行的還原烷基化反應(yīng)。
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