[發明專利]一種防偽微結構顆粒的制造方法

無效

• 申請號: 201310046525.4
• 申請日: 2013-02-05
• 公開（公告）號: CN103971594A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發明（設計）人: 沈欣;饒道軍;余勇
• 申請（專利權）人: 上海盛業印刷有限公司
• 主分類號: G09F7/00
• 分類號: G09F7/00
• 代理公司: 上海科盛知識產權代理有限公司 31225
• 代理人: 葉敏華

技術領域

本發明涉及一種防偽材料及其制備方法，尤其是涉及一種防偽微結構顆粒的制造方法。

背景技術

防偽技術在各個行業中的應用可以幫助消費者迅速鑒別商品的真偽，保護消費者權益，同時幫助企業用戶打擊假冒產品、杜絕批量防造、保護企業品牌、維護企業形象，避免經濟損失。通常在包裝領域使用的防偽技術主要采用如下：精密印刷、激光全息印刷、金屬線、熒光染料、磁性染料、熱敏染料、微縮印刷、鋼模壓型等。這些技術在使用初期都曾發揮過一定的作用，但由這些防偽技術普遍存在技術含量低，結構組合易被破譯等缺陷。如傳統的熒光、磁性、熱敏等防偽方法，就是在產品的特定部位，用專用油墨印上特定的圖形符號，然后用專門的手段去檢測。隨著技術的進步和推廣，這些方法很容易被假冒者破譯和利用。技術配方和設備的優勢將不復存在，偽造者掌握了這項技術和設備后就可以肆無忌憚地大量防造。

隨著經濟的發展，偽造與防偽之間的矛盾越來越尖銳。尤其是隨著計算機圖形處理技術、彩色復印、高精度掃描、高分辨率打印、數子化印刷技術及大型印刷設備的普及，使原有依靠印刷工藝獲得的微縮防偽措施很容易被仿制。因此，研究和開發各種新型、高效的微型結構防偽技術，是一項追切需要的工作。

中國專利CN2192930公開了一種晶粒式超微縮防偽標識及帶有防偽標識的產品，是采用集成電路的微細加工工藝，在硅或其它材料上印制出用戶所指定的特殊圖形標志層，可粘貼或鑲嵌在產品或產品包裝上作為防偽標志。圖形精細可達微米級，極難仿制。可通過肉眼、普通放大鏡或顯微鏡在不同層次上加以觀察，易于識別。這種微縮技術相對來說生產成本極高，也很難形成規模化生產，只有特定的用戶才能夠接受。

中國專利CN201754317U公開的一項實用新型專利涉及一種納米微粒防偽標識，包括基體，基體上印刷有信息層，其特征在于信息層上還印刷有一層透明的納米顆粒防偽層，納米顆粒防偽層上散布多個納米防偽顆粒。該實用新型解決了現有技術防偽標識自身容易被仿冒的缺陷，具有不易被仿冒、使用壽命長、防偽效果好的優點。同樣，由于該技術是以標簽的形式存在的，因此在使用領域上也具有很大局限性。

發明內容

本發明的目的就是為了克服上述現有技術存在的缺陷而提供一種制造工藝簡單、制備精度高、應用范圍廣的防偽微結構顆粒的制造方法。

本發明的目的可以通過以下技術方案來實現：

一種防偽微結構顆粒的制造方法，該方法包括以下步驟：

(1)在基片上用涂布機涂覆一層可模壓成型的剝離膠層，該剝離膠層可溶解于有機溶劑，或可受熱熔化，以便于從基片上剝落；

(2)在剝離膠層表面沉積光學薄膜；

(3)在光學薄膜的表面涂覆紫外材料層；

(4)制作具有微結構圖形的模板；

(5)采用具有微結構圖形的模板，沖壓基片，使得基片上面的紫外材料層及光學薄膜被壓制斷裂成與微結構圖形一樣的防偽微結構顆粒，該顆粒通過剝離膠層粘貼在基片上；

(6)將防偽微結構顆粒從基片上剝離下來。

所述的基片為表面光滑平整的塑料基材或金屬薄膜，優選PP或PET塑料薄膜。

步驟(2)所述的在剝離膠層表面沉積光學薄膜之前先在剝離膠層上涂覆紫外材料層。

步驟(2)所述的光學薄膜為一層或多層的金屬薄膜或介質光學薄膜，所述的光學薄膜的厚度為50～1800nm，此厚度使光學薄膜具有較佳的光學反射性能、光致變色性能、適當的物理強度和抗腐蝕化學穩定性。

步驟(3)所述的紫外材料層的厚度為50～1500nm。所述的紫外材料層在紫外光照射下能夠顯現顏色，便于識別。

步驟(4)所述的制作具有微結構圖形的模板的方法為：

用微電子束光刻制版設備和工藝將設計的縮微圖形制作成光學掩模版，再借助于光學掩模版通過感光膠曝光工藝制作出具有凹凸狀的微圖形的感光膠板，借助于感光膠板，采用電鑄工藝復制得到具有微結構圖形的金屬模版。

步驟(4)所述的具有微結構圖形的模板上的微結構圖形凸凹槽的深度大于紫外材料層與光學薄膜的厚度和。微結構圖形凸凹槽的深度控制在2～10微米，所述圖形為幾何外形，包含圖案、文字或字母或者它們的組合。

步驟(6)中，用有機溶劑清洗基片上的剝離膠層以將防偽微結構顆粒從基片上剝離下來，所述的有機溶劑為能溶解剝離膠層的溶液，所述的有機溶劑選自乙酸乙酯、丙酮或四氫呋喃中的一種或幾種。