[發明專利]一種防偽微結構顆粒的制造方法

無效

• 申請號: 201310046525.4
• 申請日: 2013-02-05
• 公開（公告）號: CN103971594A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發明（設計）人: 沈欣;饒道軍;余勇
• 申請（專利權）人: 上海盛業印刷有限公司
• 主分類號: G09F7/00
• 分類號: G09F7/00
• 代理公司: 上海科盛知識產權代理有限公司 31225
• 代理人: 葉敏華

1.一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

(1)在基片上涂覆一層可模壓成型的剝離膠層；

(2)在剝離膠層表面沉積光學薄膜；

(3)在光學薄膜的表面涂覆紫外材料層；

(4)制作具有微結構圖形的模板；

(5)采用具有微結構圖形的模板，沖壓基片，使得基片上面的紫外材料層及光學薄膜被壓制斷裂成與微結構圖形一樣的防偽微結構顆粒，該顆粒通過剝離膠層粘貼在基片上；

(6)將防偽微結構顆粒從基片上剝離下來。

2.根據權利要求1所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，所述的基片為表面光滑平整的塑料基材或金屬薄膜。

3.根據權利要求1所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，步驟(2)所述的在剝離膠層表面沉積光學薄膜之前先在剝離膠層上涂覆紫外材料層。

4.根據權利要求1所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，步驟(2)所述的光學薄膜為一層或多層的金屬薄膜或介質光學薄膜，所述的光學薄膜的厚度為50～1800nm。

5.根據權利要求1所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，步驟(3)所述的紫外材料層的厚度為50～1500nm。

6.根據權利要求1所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，步驟(4)所述的制作具有微結構圖形的模板的方法為：

用微電子束光刻制版設備和工藝將設計的縮微圖形制作成光學掩模版，再借助于光學掩模版通過感光膠曝光工藝制作出具有凹凸狀的微圖形的感光膠板，借助于感光膠板，采用電鑄工藝復制得到具有微結構圖形的金屬模版。

7.根據權利要求1所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，步驟(4)所述的具有微結構圖形的模板上的微結構圖形凸凹槽的深度大于紫外材料層與光學薄膜的厚度和。

8.根據權利要求1所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，步驟(6)中，用有機溶劑清洗基片上的剝離膠層以將防偽微結構顆粒從基片上剝離下來。

9.根據權利要求8所述的一種防偽微結構顆粒的制造方法，其特征在于，離開基片后的防偽微結構顆粒位于有機溶劑內，對該有機溶劑進行超聲波處理，然后通過雙重過濾并干燥后即得到具有一定大小和形狀圖案的防偽微結構顆粒。