[發明專利]一種熔噴活性炭無紡布及其生產工藝

有效

• 申請號: 201310044653.5
• 申請日: 2013-02-05
• 公開（公告）號: CN103085374A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 謝道訓;應納迪
• 申請（專利權）人: 寧波市奇興無紡布有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B33/00;B32B37/15;B32B37/24;B32B37/10
• 代理公司: 寧波市天晟知識產權代理有限公司 33219
• 代理人: 張文忠

技術領域

本發明涉及一種無紡布及其生產工藝，尤其是一種熔噴活性炭無紡布及其生產工藝。

背景技術

無紡布又稱不織布，是由定向的或隨機的纖維而構成，是新一代環保材料，具有防潮、透氣、柔韌、質輕、不助燃、容易分解、無毒無刺激性、色彩豐富、價格低廉、可循環再用等特點。如多采用聚丙烯(pp材質)粒料為原料，經高溫熔融、噴絲、鋪綱、熱壓卷取連續一步法生產而成。因具有布的外觀和某些性能而稱其為布。無紡布是一種不需要紡紗織布而形成的織物，只是將紡織短纖維或者長絲進行定向或隨機撐列，形成纖網結構，然后采用機械、熱粘或化學等方法加固而成。非織造布突破了傳統的紡織原理，并具有工藝流程短、生產速率快，產量高、成本低、用途廣、原料來源多等特點；但是無紡布易起球，尺寸安定性差的缺點。

現有的活性炭無紡布是在無紡布上灑上活性碳粉再采用膠或者熱熔復合的方法將活性炭和無紡布結合，由于采用膠粘方法或者熱熔方法都會進一步增加無紡布濾阻，降低無紡布的過濾效率，而且生產工藝復雜，工序多。現有專利號為CN201220180536.2，名稱為《活性炭無紡布》的專利公開一種活性炭無紡布，包括無紡布層，無紡布層包括內層和里層，所述的無紡布層由內層與外層之間還吸附融結有由粉末狀結構顆粒構成的活性炭層，所述的無紡布層與活性炭層通過粘膠相連。該專利雖然將活性炭層置于無紡布層之間，但是其通過粘膠的方法連接，粘膠層不但會增加無紡布濾阻，而且會阻塞活性炭的空隙，從而影響無紡布的過濾能力及活性炭的吸附能力，因此其結構有待進一步改進。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是為改善上述技術現狀，提供吸附性高、過濾性高、用途廣泛的一種熔噴活性炭無紡布，它對有毒有害氣體、液體具有良好的吸附及過濾作用。

本發明所要解決的技術問題是為改善上述技術現狀，提供工藝簡單、工序少、且能避免增加無紡布的濾阻的一種熔噴活性炭無紡布的生產工藝，它以活性炭為吸附材料，采用熔噴技術將活性炭粉末均勻噴撒于熔噴層上，再通過軋壓成型制成上述產品。

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案為：

一種熔噴活性炭無紡布，包括有活性碳層，其中，活性碳層位于底層熔噴層和頂層熔噴層之間，活性碳層由活性碳粉末經高壓噴射構成，底層熔噴層和頂層熔噴層均由原料顆粒熔融形成熔體后噴射成絲構成，且底層熔噴層和頂層熔噴層軋壓后將活性碳層包裹其中。

為優化上述技術方案，采取的具體措施還包括：

上述的原料顆粒為聚丙烯顆粒，原料顆粒的粒徑為3?mm至5mm，熔體的流動性指數為10g/min至20g/min，熔體的灰分小于或等于200ppm，熔體的含水量小于或等于0.2%，熔體的溫度為250℃至350℃。

上述的活性炭的粒徑為1?mm至3mm，活性炭的密度為0.3?g/ml至0.4g/ml，活性炭的比表面積1500?m²/g至2500m²/g，活性炭的孔隙數量為1000個/g至1500個/g，活性炭的孔隙容積為0.2?mL/g至1mL/g。

本發明的一種熔噴活性炭無紡布的生產工藝，包括以下步驟：

步驟一、將原料顆粒裝入二臺間隔設置的螺桿擠出機的加料斗內，使原料顆粒通過螺桿擠出機加熱熔融形成熔體，同時將活性炭粉末加入設置于二臺螺桿擠出機之間的活性碳施加裝置的進料斗中；

步驟二、所述的熔體從螺桿擠出機中擠出，經過計量裝置計量輸出至熔體噴射模頭，經過加熱器加熱后的空氣也進入熔體噴射模頭中，同時活性炭粉末在壓縮空氣包中的壓縮空氣作用下輸送到活性碳粉噴射頭中，經過凈化后的壓縮空氣也隨之進入活性碳粉噴射頭中；

步驟三、所述的熔體在負壓作用下從熔體噴射模頭中噴出，噴出的熔體通過氣流牽伸形成纖維而鋪置于輸網簾上，噴出的纖維分別形成底層熔噴層和頂層熔噴層，所述的活性炭粉末在活性碳粉噴射頭的高壓作用下噴到底層熔噴層上形成活性碳層，所述的活性碳層位于底層熔噴層和頂層熔噴層之間；

步驟四、由纖維構成的底層熔噴層和頂層熔噴層與由活性炭粉末構成的活性碳層一起經過熱軋輥軋壓形成熔噴活性炭無紡布；

步驟五、成形后的熔噴活性炭無紡布通過卷布機卷成布卷。

上述的熔體擠出機的螺桿直徑為80?mm至100mm，螺桿的長徑比為10至15，螺桿的加料段為?200℃至220℃，螺桿的壓縮段為?230℃至250℃。

上述的熔體噴射模頭的溫度為?250℃至270℃，熔體噴射模頭的噴射孔徑在200?nm至500nm。