[發明專利]銻的冶煉裝置和冶煉方法

有效

• 申請號: 201310041034.0
• 申請日: 2013-02-01
• 公開（公告）號: CN103114212A
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 姚素平;李賦屏;王瑋;劉慶華;符志堅;甘平;宋照榮;汪金良;戴曦;王志剛
• 申請（專利權）人: 中國瑞林工程技術有限公司;廣西有色金屬集團有限公司
• 主分類號: C22B30/02
• 分類號: C22B30/02
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋合成;黃德海

1.一種銻的冶煉裝置，其特征在于，包括：

反應塔，所述反應塔的下部設有沉淀池，所述沉淀池內設有分隔件以將所述沉淀池的爐腔分成氧化區和還原區且所述氧化區和所述還原區連通，所述反應塔的頂部設有還原劑加料口，所述氧化區的頂壁上設有氧化區出煙口，所述還原區的側壁和頂壁中的一個上設有還原劑加入口且所述還原區的頂壁上設有還原區出煙口；和

噴嘴，所述噴嘴設在所述反應塔的頂部上以便將熔劑、粉末狀脆硫銻鉛礦以及富氧氣體和氧氣中的一種噴入所述反應塔內。

2.根據權利要求1所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述還原劑加料口設在所述反應塔的爐腔的頂壁上。

3.根據權利要求1所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述氧化區的壁和所述還原區的壁中的每一個上都設有耐火保護層，所述耐火保護層的內壁或外壁上設有冷卻水套。

4.根據權利要求1所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述分隔件的下端與所述沉淀池的爐腔的底壁間隔預定距離。

5.根據權利要求1所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述分隔件的下端與所述沉淀池的爐腔的底壁相連，所述分隔件上設有用于連通所述氧化區和所述還原區的連通通道。

6.根據權利要求1所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述分隔件由耐火材料制成且所述分隔件內設有冷卻水套或者所述分隔件由冷卻水套構成。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述還原劑加入口為多個且多個所述還原劑加入口沿所述還原區的側壁的周向間隔開設置。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述還原區的側壁上還設有位于所述沉淀池上方的燃燒器。

9.根據權利要求8所述的銻的冶煉裝置，其特征在于，所述燃燒器為多個且多個所述燃燒器沿所述還原區的側壁的周向間隔開設置。

10.一種利用權利要求1-9中任一項所述的冶煉裝置進行的銻的冶煉方法，其特征在于，所述冶煉方法包括以下步驟：

通過所述還原劑加料口將第一還原劑加入到所述沉淀池內以在所述沉淀池的渣相層上方形成還原劑過濾層；

通過所述噴嘴將熔劑、粉末狀脆硫銻鉛礦以及富氧氣體和氧氣中的一種噴入所述反應塔內以對所述粉末狀脆硫銻鉛礦進行熔煉得到銻鉛合金和富銻鉛渣，然后所述銻鉛合金和所述富銻鉛渣穿過所述還原劑過濾層以還原所述富銻鉛渣中的一部分氧化銻和氧化鉛，其中所述沉淀池內形成有銻鉛合金層和位于所述銻鉛合金層上方的渣相層；

通過所述還原劑加入口將第二還原劑加入到位于所述還原區的渣相層內以對從所述氧化區流到所述還原區的所述富銻鉛渣中的其余氧化銻和氧化鉛進行還原得到貧化渣；和

分別排出所述貧化渣和所述銻鉛合金。

11.根據權利要求10所述的冶煉方法，其特征在于，在1100攝氏度-1500攝氏度的條件下對所述粉末狀脆硫銻鉛礦進行熔煉。

12.根據權利要求10所述的冶煉方法，其特征在于，所述粉末狀脆硫銻鉛礦的粒度不大于負400目。

13.根據權利要求10所述的冶煉方法，其特征在于，所述富氧氣體的含氧量為40v%-99.6v%。

14.根據權利要求10所述的冶煉方法，其特征在于，還包括：在將所述第一還原劑加入到所述沉淀池之前以及在將所述粉末狀脆硫銻鉛礦和所述熔劑噴入所述氧化區之前對所述第一還原劑、所述粉末狀脆硫銻鉛礦和所述熔劑進行干燥。

15.根據權利要求14所述的冶煉方法，其特征在于，所述第一還原劑、所述粉末狀脆硫銻鉛礦和所述熔劑中的每一個的含水量都不大于1wt%。

16.根據權利要求10所述的冶煉方法，其特征在于，所述第一還原劑為焦炭，所述第二還原劑為粉煤、煤顆粒或煤氣。