[發明專利]一種基于受激發射損耗的超分辨熒光壽命成像方法和裝置有效
| 申請號： | 201310039978.4 | 申請日： | 2013-01-30 |
| 公開（公告）號： | CN103163106A | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發明（設計）人： | 葛劍虹;蔡歡慶;匡翠方;劉旭 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | G01N21/64 | 分類號： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡紅娟 |
| 地址： | 310027 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 受激發射 損耗 分辨 熒光 壽命 成像 方法 裝置 | ||
1.一種基于受激發射損耗的超分辨熒光壽命成像方法，其特征在于，包括以下幾個步驟：
1)將第一激光光束投射到待測樣品上，待測樣品中的粒子由基態激活至激發態；
2)用STED光投射到待測樣品上，消耗步驟1)中處于激發態的粒子的數量；
3)將第二激光光束投射到熒光樣品上，激發剩余的處于激發態的粒子發出熒光，并收集所述熒光得到相應的熒光強度圖像；
4)第二激光光束和STED光之間設有延遲，改變延遲時間，重復步驟3)，得到不同延遲時間下的熒光強度圖像；
5)通過計算機對不同延遲時間下的熒光強度圖像進行處理，并擬合光點強度衰減規律，反演壽命圖像，完成對待測樣品一點的掃描；
6)通過改變第一激光光束、STED光和第二激光光束聚焦到待測樣品上的位置，完成對待測樣品的二維掃描。
2.如權利要求1所述的基于受激發射損耗的超分辨熒光壽命成像方法，其特征在于，所述的待測樣品放置在納米平移臺上，通過計算機控制納米平移臺在垂直光軸面移動，完成對待測樣品的二維掃描。
3.如權利要求2所述的基于受激發射損耗的超分辨熒光壽命成像方法，其特征在于，所述第一激光光束和第二激光光束投射在待測樣品上形成大小相同的圓形光斑。
4.如權利要求3所述的基于受激發射損耗的超分辨熒光壽命成像方法，其特征在于，所述STED光投射到待測樣品上形成環形光斑。
5.如權利要求4所述的基于受激發射損耗的超分辨熒光壽命成像方法，其特征在于，所述圓形光斑和環形光斑的中心重合。
6.一種用于實施權利要求1所述超分辨熒光壽命成像方法的裝置，其特征在于，包括：
分別用于發出第一激光光束、STED光和第一激光光束的第一光源、第二光源和第三光源；
用于放置待測樣品的樣品臺；
用于收集待測樣品發出熒光的光強信息圖像的探測器；
以及用于對所述光強信息圖像進行處理分析的計算機。
7.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述第三光源和樣品臺之間設有電光調制器。
8.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，還設有用于對待測樣品進行掃描的二維掃描振鏡，該二維掃描振鏡受所述計算機控制。
9.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述樣品臺為納米平移臺，該納米平移臺受所述計算機控制。
10.如權利要求9所述的裝置，其特征在于，所述樣品臺和探測器之間設有濾波片。
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