[發明專利]一種在襯底上固定掩膜版的裝置、使用方法及其用途

在審

• 申請號: 201310037002.3
• 申請日: 2013-01-30
• 公開（公告）號: CN103116428A
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 劉志斌;趙斌;黃海東;陳凱
• 申請（專利權）人: 無錫力合光電傳感技術有限公司;無錫力合光電石墨烯應用研發中心有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

技術領域

本發明涉及一種在襯底上固定掩膜版的裝置、使用方法及其用途，具體涉及一種在襯底上固定掩膜版的裝置、及其在濺射鍍膜過程中的使用方法和用途。

背景技術

觸摸屏是一種輸入設備，能夠方便實現人與計算機及其它便攜式移動設備的交互作用。近年來，基于透明導電薄膜的電容觸摸屏被廣泛應用于移動互聯設備，如智能手機，便攜式平板電腦。

觸摸屏按照功能區域劃分為視窗觸控區2和引線電極區1，引線電極區1通過控制器連接外部結構（圖1為電容式觸摸屏的功能區域示意圖）。電容式觸摸屏從構造上可分為雙片式電容觸摸屏和單片式電容觸摸屏。但無論雙片式電容觸摸屏還是單片式電容觸摸屏，其均需要在基板上鍍一層透明導電膜層。而在透明導電膜層的四邊均需鍍上狹長的電極，以便在導電體內形成一個低電壓交流電場。在觸摸屏幕時，由于人體電場，手指與導體層間會形成一個耦合電容，四邊電極發出的電流會流向觸點，而電流強弱與手指到電極的距離成正比，位于觸摸屏幕后的控制器便會計算電流的比例及強弱，準確算出觸摸點的位置。

在電容式觸摸屏中，能夠作為透明導電膜層的材料可以是ITO（銦錫氧化物）或石墨烯。對于ITO材料制備得到的透明導電膜層，脆性高，易出現裂紋、脫落，壽命短，而且無法用做PET材質的基板，且成本高。ITO透明導電膜層可通過濺射鍍膜的方式制備得到。然而，基于ITO透明導電薄膜的電容式觸摸屏的制備工藝包括玻璃硬化、ITO鍍膜、黑膜、黃光刻蝕、金屬鍍膜、濕法刻蝕以及異型切割等，成本較高，且產品的良率很低。

對于石墨烯材料制備的透明導電膜層，其導電率高，透射性好，且石墨烯層完全無色，能夠較為真實的反應圖案本身的色彩。但石墨烯材料制備的透明導電膜層還存在如下的技術問題：

（1）由于石墨烯性質穩定，普通的化學刻蝕方法無法形成石墨烯導電圖形；

（2）在化學刻蝕中，金屬層的去除過程會破壞金屬層下石墨烯層的完整性，這是由于石墨烯層的厚度（小于2nm）遠遠小于金屬層（200nm～1000nm）的緣故；

（3）在PVD過程中利用掩膜版直接形成引線電極區是一種比較簡便的方法，但考慮到掩膜版任何部分都不能遮擋引線電極區，因此如何固定掩膜版是技術難點。如果不能固定，那么掩膜版只能水平放置，從而限制了鍍膜樣品的位置，嚴重降低了生產效率。

ITO透明導電膜層和金屬膜層的制備普遍采用濺射鍍膜的方式實現。濺射鍍膜是利用高能離子沖擊材料靶，從其表面濺射出粒子并沉積在工件表面上形成薄膜的方法。

在電容式觸摸屏的制備過程中，覆有透明導電膜層的基板上需要僅在引線電極區涂覆導電的金屬膜層作為引線電極，以將視窗觸控區接收到的觸控點信號傳送給觸摸屏的信號接受器。

因此，本領域需要開發一種在襯底上固定掩膜版的裝置，通過所述的裝置能夠將掩膜版固定在覆有透明導電膜層的基板上，使視窗觸控區完全被掩膜版遮蓋，并且掩膜版的任何部位都不會遮擋引線電極區。

發明內容

針對現有技術的不足，本發明的目的之一在于提供一種在襯底上固定掩膜版的裝置。所述裝置能夠將掩膜版固定在覆有透明導電膜層的基板上，并且掩膜版僅完全遮擋視窗觸控區，完全不遮擋引線電極區。

本發明是通過如下技術方案實現的：

一種在襯底上固定掩膜版的裝置，所述裝置包括：

基座；

底座，設于基座上，用于放置襯底；底座上設若干磁鐵，用于吸附具有磁性的掩膜版；

掩膜版放置架，與基座活動連接，用于放置掩膜版。

本發明提供的裝置通過磁性將掩膜版固定在不需要濺射鍍膜的部位，實現“所述掩膜版僅完全遮擋視窗觸控區，完全不遮擋引線電極區”的目的。

本發明所述掩膜版與基座的連接方式可以是軸活動連接，或者是點活動連接等等，任何一種能夠保持掩膜版受控制活動的連接方式均可用于本發明。

本發明所述的掩膜版和底座上設置的磁鐵為磁性相吸的材料。優選地，所述底座上的磁鐵選自磁鐵性材料中的任意1種或至少2種的組合，進一步優選鎳鐵合金、釹鐵硼合金、釤鈷磁鐵、鋁鎳鈷磁鐵、鐵氧體磁鐵或天然磁石中的任意1種或至少2種的組合，所述組合例如鎳鐵合金/鋁鎳鈷磁鐵、鐵氧體磁鐵/天然磁石、釹鐵硼合金/釤鈷磁鐵、鐵氧體磁鐵/天然磁石/釹鐵硼合金等。

本發明所述具有磁性的掩膜版的材質選自鐵磁性物質，優選自鐵、鎳或其氧化物中的任意1種或至少2種的組合，進一步選自硅鋼、純鐵、鐵氧體中的任意1種或至少2種的組合，所述組合例如硅鋼/純鐵、鐵氧體/硅鋼、硅鋼/純鐵/鐵氧體等。