[發(fā)明專利]X射線熒光分析的α系數(shù)測定方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310036201.2
• 申請日: 2013-01-30
• 公開（公告）號: CN103969273A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬振珠;劉玉兵;戴平;諸葛順金;趙鷹立;閆冉;韓蔚
• 申請（專利權(quán)）人: 中國建材檢驗(yàn)認(rèn)證集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京鼎佳達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11348
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種X射線熒光分析技術(shù)，特別是涉及一種X射線熒光分析的α系數(shù)測定方法。

背景技術(shù)

目前，X射線熒光分析時(shí)所采用的α系數(shù)一般為理論α系數(shù)，或通過線性回歸實(shí)驗(yàn)測定的經(jīng)驗(yàn)校正系數(shù)，經(jīng)驗(yàn)校正系數(shù)并沒有明確的物理含義。具有明確物理意義的α系數(shù)實(shí)驗(yàn)測定僅局限于二元系統(tǒng)，主要用于與理論α系數(shù)的比較，一般不會應(yīng)用于實(shí)際XRF分析工作中。理論α系數(shù)由于在計(jì)算過程中涉及的參數(shù)自身存在誤差，從而校正效果受到一定限制。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于，提供一種X射線熒光分析的α系數(shù)測定方法，使其獲得能夠應(yīng)用于X射線熒光分析中的α系數(shù)。

本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種X射線熒光分析的α系數(shù)測定方法，其特征在于，包括：選取標(biāo)準(zhǔn)樣品S，該標(biāo)準(zhǔn)樣品中至少含有成份P與成份Q；向(1-y_p)質(zhì)量份的標(biāo)準(zhǔn)樣品S中加入y_p質(zhì)量份的成份P的純基準(zhǔn)化學(xué)物質(zhì)，制備n個(gè)P系列標(biāo)準(zhǔn)樣品，n大于等于3，將上述P系列標(biāo)準(zhǔn)樣品制備成玻璃熔片后，分別進(jìn)行X射線熒光強(qiáng)度測量；得到各P系列標(biāo)準(zhǔn)樣品中成份P的射線熒光強(qiáng)度，分別為I_pp1、I_pp2、…、I_ppn，所述各P系列標(biāo)準(zhǔn)樣品中：加入的成份P的質(zhì)量份為y_pp1、y_pp2、…、y_ppn，成份P的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為C_pp1、C_pp2、…、C_ppn；

令，C=Cpp1Cpp2···Cppn,]]>K=K1K2,]]>X=Ipp1Ypp1*Ipp1Ipp2Ypp2*Ipp2······IppnYppn*Ippn,]]>