[發明專利]像素電極上鈍化層的制作方法、液晶顯示器及其制作方法

無效

• 申請號: 201310035128.7
• 申請日: 2013-01-29
• 公開（公告）號: CN103117249A
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 阮文中;陳建榮;任思雨;于春崎;胡君文;何基強
• 申請（專利權）人: 信利半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L21/31;G02F1/136
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種像素電極上鈍化層的制作方法，其特征在于，包括：

在第一功率下，利用第一流量的工藝氣體，在像素電極表面形成第一厚度的鈍化層；

在第二功率下，利用第二流量的工藝氣體，在所述第一厚度的鈍化層表面形成第二厚度的鈍化層；

其中，所述第一功率小于第二功率；所述第一流量小于第二流量；所述第一厚度小于第二厚度。

2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，第一功率為第二功率的50%。

3.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，第一流量為第二流量的20%-40%，包括端點值。

4.根據權利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述第一厚度為第二厚度的10%-15%，包括端點值。

5.根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述第一厚度的范圍為包括端點值。

6.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述鈍化層為氮化硅層。

7.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述鈍化層制作過程中的工藝氣體包括SiH₄和NH₃。

8.一種液晶顯示器的制作方法，其特征在于，包括：

采用權利要求1-7任一項所述的制作方法，在像素電極表面依次形成第一厚度的鈍化層和第二厚度的鈍化層；

在所述鈍化層內形成過孔，所述過孔完全貫穿所述第一厚度的鈍化層和第二厚度的鈍化層；

在具有過孔的鈍化層表面形成頂層電極。

9.一種采用權利要求8所述制作方法制作的液晶顯示器。