[發明專利]一種層狀NiAl材料及其制備方法無效
| 申請號: | 201310026951.1 | 申請日: | 2013-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN103057203A | 公開(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發明(設計)人: | 范國華;杜巖;王慶偉;耿林;張杰;崔喜平;鄭鎮洙;王桂松;李愛濱 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | B32B15/01 | 分類號: | B32B15/01;B32B37/10;C22C19/03;C22C21/00;C22C30/00;C22F1/04;C22F1/00;C22F1/10 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 金永煥 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 層狀 nial 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種層狀NiAl材料,其特征在于:它是由Ni箔和Al箔交替疊層后制備而成的,層狀NiAl材料的晶粒呈層狀分布。
2.根據權利要求1所述的一種層狀NiAl材料,其特征在于:所述的Ni箔的厚度為0.05mm~0.5mm;所述的Al箔的厚度為0.05mm~0.5mm。
3.根據權利要求1或2所述的一種層狀NiAl材料,其特征在于:所述的由Ni箔和Al箔交替疊層后,上表面和下表面都為Ni箔。
4.制備如權利要求1所述的一種層狀NiAl材料的方法,其特征在于:該方法具體是按以下步驟完成的:
一、準備Ni箔和Al箔,并對Ni箔和Al箔進行表面清潔處理;
二、將經步驟一處理的Ni箔和Al箔交替疊層放置后,在真空度小于1Pa的條件下,加熱至300℃~500℃,同時施加10MPa~30MPa的機械壓力,恒溫恒壓0.5h~1.5h后,卸去壓力,得到初材料;
三、將經步驟二處理得到的初材料加熱至1150℃~1450℃,保溫1h~3h,然后,降溫至800℃~1100℃,同時施加10MPa~40MPa的機械壓力,恒溫恒壓0.5h~1.5h后,卸去壓力并冷卻至室溫,即得到層狀NiAl材料,其中,層狀NiAl材料的晶粒呈層狀分布。
5.根據權利要求4所述的一種層狀NiAl材料的制備方法,其特征在于:所述的步驟一中的Ni箔的厚度為0.05mm~0.5mm;Al箔的厚度為0.05mm~0.5mm。
6.根據權利要求4或5所述的一種層狀NiAl材料的制備方法,其特征在于:所述的步驟一中的表面處理的方法:用丙酮擦洗Ni箔的表面和Al箔的表面,然后,對Ni箔進行酸洗,對Al箔進行堿洗,最后,分別用水進行沖洗后,干燥。
7.根據權利要求4或5所述的一種層狀NiAl材料的制備方法,其特征在于:所述的步驟二中的由Ni箔和Al箔交替疊層后,上表面和下表面分別為Ni箔。
8.根據權利要求4或5所述的一種層狀NiAl材料的制備方法,其特征在于:所述的步驟二中的加熱速率為5℃/min~15℃/min。
9.根據權利要求4或5所述的一種層狀NiAl材料的制備方法,其特征在于:所述的步驟三中的升溫的速率為8℃/min~12℃/min。
10.根據權利要求4或5所述的一種層狀NiAl材料的制備方法,其特征在于:所述的步驟三中的降溫的速率為8℃/min~12℃/min。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱工業大學,未經哈爾濱工業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310026951.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





