[發明專利]一種卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置及方法

無效

• 申請號: 201310022484.5
• 申請日: 2013-01-22
• 公開（公告）號: CN103046015A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 朱景森;張承慶;胡小萍;盧志超;李德仁
• 申請（專利權）人: 安泰科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 北京中安信知識產權代理事務所(普通合伙) 11248
• 代理人: 張小娟

技術領域

本發明涉及一種高真空條件下在各種帶材表面連續磁控濺射制備各類薄膜的鍍膜設備和方法，特別涉及一種卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置及鍍膜方法。

背景技術

磁控濺射鍍膜技術已經在我國的建材、裝飾、光學、工磨具強化、集成電路等領域得到廣泛應用，是進行、光電、光熱、磁學、超導、介質、催化等功能薄膜制備的重要技術手段，但目前市場上的設備主要用于小面積或單片襯底的濺射鍍膜，能夠實現工業連續化生產的設備和技術并不多見，少數能夠實現連續化生產的設備同樣存在濺射效率低，鍍膜質量差，工藝時間長等缺點，市場前景并不樂觀，如何利用磁控濺射技術實現濺射鍍膜技術的效率高，膜層質量均勻，粘附性好等特點，是利用磁控濺射技術所亟待解決的技術問題。

發明內容

本發明的是提供一種用于帶狀工件的表面濺射鍍膜，生產效率高，濺射膜層質量穩定、均勻、一致性好的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置和鍍膜方法。

為了實現上述目的，本發明采用以下技術方案：

一種卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，包括濺射室2和進樣室3，其中：

所述濺射室2內安裝至少一個靶材，濺射室2內的中部為加熱區，該加熱區的上下方分別有上膠輥9和下膠輥8，將帶狀工件在濺射室2內可控制的反復往來卷繞；

所述進樣室3中安裝有電機驅動的收卷裝置6和放卷裝置7；

所述濺射室2與進樣室3之間設有至少兩個可調節的狹縫。

所述加熱區分為上加熱區和下加熱區，上加熱區內布置有上加熱體25，下加熱區內布置有下加熱體26。

所述上膠輥9和下膠輥8分別由上卷繞電機19相連的上膠輥9和下卷繞電機20驅動。

濺射室2與進樣室3之間的狹縫有狹縫調節裝置16，狹縫調節裝置16上與放卷裝置7對應處設有放卷狹縫27，與收卷裝置6對應處設有收卷狹縫28。

所述狹縫調節裝置16可將放卷狹縫27和收卷狹縫28關閉，從而將濺射室2與進樣室3獨立分開。

所述濺射室2和進樣室3分別設置有抽真空系統，濺射室2的抽真空系統包括第二分子泵23和第二機械泵24，進樣室3的抽真空系統包括第一分子泵21和第一機械泵22；兩套抽真空系統可獨立工作。

所述上膠輥9和下膠輥8采用不銹鋼外面包裹高溫硅膠制成。

所述收卷裝置6配有導向的收卷導向輥17，放卷裝置7配有導向的放卷導向輥18；收卷導向輥17和放卷導向輥18的位置可根據帶狀工件10的張力大小改變。

所述加熱區內布置有多個擋帶裝置13、14、15。

所述靶材為條形，包括前靶材11和后靶材12。

一種卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置的鍍膜方法，它包括如下步驟：

a.帶狀工件10置于進樣室3的放卷裝置7上，它經過放卷導向輥18導向，穿過放卷狹縫27進入濺射室2；

b.然后由下膠輥8輸送至上膠輥9，多次卷繞上膠輥9和下膠輥8，使帶狀工件可控制的在濺射室內反復往來卷繞，在此反復卷繞過程中，條形狀的靶材裝置對帶狀工件10進行真空濺射鍍膜；

c.待濺射鍍膜完成后，帶狀工件10穿過收卷狹縫28，由收卷導向輥17導向，最后卷繞到收卷裝置6上。

步驟b中，所述上膠輥9和下膠輥8始終保持恒定勻速旋轉；所述靶材裝置與帶狀工件10之間的距離可以手動調節。

步驟a和c中，收卷裝置6和放卷裝置7可根據設定速度和卷軸大小而調整轉速。

所述收卷裝置6和放卷裝置7的功能可根據需要互換。

本發明有益效果在于：本發明的帶狀工件在濺射室內反復往來卷繞，極大地增加了濺射面積，靶材的利用率更高，帶狀工件經過反復卷繞，工件任意部分經過長距離傳輸，反復濺射鍍膜，膜層質量均勻、生長速率快，同時還可以調節收、放卷速率，從而調整膜層的濺射速率及質量。

附圖說明

圖1為本發明的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置的結構正視圖；

圖2為本發明的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置的結構側視圖。

【主要組件符號說明】

1???????真空鍍膜裝置????????????????15??????第三擋帶裝置

2???????濺射室??????????????????????16??????狹縫調節裝置

3???????進樣室??????????????????????17??????收卷導向輥