[發明專利]一種卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置及方法

無效

• 申請號: 201310022484.5
• 申請日: 2013-01-22
• 公開（公告）號: CN103046015A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 朱景森;張承慶;胡小萍;盧志超;李德仁
• 申請（專利權）人: 安泰科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 北京中安信知識產權代理事務所(普通合伙) 11248
• 代理人: 張小娟

1.一種卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，包括濺射室(2)和進樣室(3)，其特征在于：

所述濺射室(2)內安裝至少一個靶材，濺射室(2)內的中部為加熱區，該加熱區的上下方分別有上膠輥（9）和下膠輥（8），將帶狀工件在濺射室（2）內可控制的反復往來卷繞；

所述進樣室(3)中安裝有電機驅動的收卷裝置(6)和放卷裝置(7)；

所述濺射室(2)與進樣室(3)之間設有至少兩個可調節的狹縫。

2.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述加熱區分為上加熱區和下加熱區，上加熱區內布置有上加熱體(25)，下加熱區內布置有下加熱體(26)。

3.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述上膠輥(9)和下膠輥(8)分別由上卷繞電機(19)相連的上膠輥(9)和下卷繞電機(20)驅動。

4.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：濺射室(2)與進樣室(3)之間的狹縫有狹縫調節裝置(16)，狹縫調節裝置(16)上與放卷裝置(7)對應處設有放卷狹縫(27)，與收卷裝置(6)對應處設有收卷狹縫(28)。

5.如權利要求4所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述狹縫調節裝置(16)可將放卷狹縫(27)和收卷狹縫(28)關閉，從而將濺射室(2)與進樣室(3)獨立分開。

6.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述濺射室(2)和進樣室(3)分別設置有抽真空系統，濺射室(2)的抽真空系統包括第二分子泵(23)和第二機械泵(24)，進樣室(3)的抽真空系統包括第一分子泵(21)和第一機械泵(22)；兩套抽真空系統可獨立工作。

7.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述上膠輥(9)和下膠輥(8)采用不銹鋼外面包裹高溫硅膠制成。

8.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述收卷裝置(6)配有導向的收卷導向輥(17)，放卷裝置(7)配有導向的放卷導向輥(18)；收卷導向輥(17)和放卷導向輥(18)的位置可根據帶狀工件(10)的張力大小改變。

9.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述加熱區內布置有多個擋帶裝置(13、14、15)。

10.如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述靶材為條形，包括前靶材(11)和后靶材（12）。

11.一種如權利要求1所述的卷對卷式高效磁控濺射真空鍍膜裝置的鍍膜方法，其特征在于：它包括如下步驟：

a.帶狀工件(10)置于進樣室(3)的放卷裝置(7)上，它經過放卷導向輥(18)導向，穿過放卷狹縫(27)進入濺射室(2)；

b.然后由下膠輥(8)輸送至上膠輥(9)，多次卷繞上膠輥(9)和下膠輥(8)，使帶狀工件可控制的在濺射室內反復往來卷繞，在此反復卷繞過程中，條形狀的靶材裝置對帶狀工件(10)進行真空濺射鍍膜；

c.待濺射鍍膜完成后，帶狀工件(10)穿過收卷狹縫(28)，由收卷導向輥(17)導向，最后卷繞到收卷裝置(6)上。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于：步驟b中，所述上膠輥(9)和下膠輥(8)始終保持恒定勻速旋轉；所述靶材裝置與帶狀工件(10)之間的距離可以手動調節。

13.如權利要求11所述的方法，其特征在于：步驟a和c中，收卷裝置(6)和放卷裝置(7)可根據設定速度和卷軸大小而調整轉速。

14.如權利要求11所述的方法，其特征在于：所述收卷裝置(6)和放卷裝置(7)的功能可根據需要互換。