[發(fā)明專利]表面下沉量量測方法及其量測設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310015835.X | 申請日: | 2013-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN103913120A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳冠文;陳大衛(wèi) | 申請(專利權(quán))人: | 緯創(chuàng)資通股份有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 趙根喜;呂俊清 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 表面 下沉 量量測 方法 及其 設(shè)備 | ||
1.一種表面下沉量量測設(shè)備,用以量測一裝置的一機(jī)殼表面的下沉量,其特征在于,包括:
一支撐架,支撐該裝置;
一光源,提供一光線,其中,該光源位于一基準(zhǔn)平面,該光線沿水平方向行進(jìn);
一接收器,接收該光線,其中,該接收器位于該基準(zhǔn)平面,當(dāng)該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值時(shí),該機(jī)殼表面與該基準(zhǔn)平面發(fā)生干涉而阻礙該接收器接收該光線;以及
一控制單元,耦接該接收器,該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果,而判斷該裝置的該機(jī)殼表面是否存在下沉量超過容許值的情況。
2.如權(quán)利要求1所述的表面下沉量量測設(shè)備,其還包括一第一導(dǎo)軌以及一第二導(dǎo)軌,該第一導(dǎo)軌平行于該第二導(dǎo)軌,該光源設(shè)于該第一導(dǎo)軌,該接收器設(shè)于該第二導(dǎo)軌,該光源沿該第一導(dǎo)軌于該基準(zhǔn)平面上移動(dòng),該接收器于該第二導(dǎo)軌上以對應(yīng)該光源的方式移動(dòng),該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果,而判斷該裝置的該機(jī)殼表面的何處存在下沉量超過容許值的情況。
3.如權(quán)利要求2所述的表面下沉量量測設(shè)備,其中,該光源為紅外線光源。
4.如權(quán)利要求2所述的表面下沉量量測設(shè)備,其中,該光源于該第一導(dǎo)軌上是由步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng),該接收器于該第二導(dǎo)軌上是由該步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的表面下沉量量測設(shè)備,其中,該裝置包括兩個(gè)凸耳,分別形成于該裝置的相反的兩側(cè),該支撐架包括兩個(gè)支撐部,所述兩個(gè)支撐部分別支撐所述兩個(gè)凸耳。
6.如權(quán)利要求5所述的表面下沉量量測設(shè)備,其中,所述兩個(gè)支撐部為L型結(jié)構(gòu)。
7.一種表面下沉量量測方法,用以量測一裝置的一機(jī)殼表面的下沉量,其特征在于,包括:
提供一表面下沉量量測設(shè)備,該表面下沉量量測設(shè)備包括一支撐架、一光源、一接收器以及一控制單元,該支撐架支撐該裝置,該光源提供一光線,其中,該光源位于一基準(zhǔn)平面,該光線沿水平方向行進(jìn),該接收器接收該光線,其中,當(dāng)該裝置的該機(jī)殼表面的下沉量超過容許值時(shí),該機(jī)殼表面與該基準(zhǔn)平面發(fā)生干涉而阻礙該接收器接收該光線,該控制單元耦接該接收器,該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果,而判斷該裝置的該機(jī)殼表面是否存在下沉量超過容許值的情況;以及
將該光源設(shè)于一第一導(dǎo)軌,將該接收器設(shè)于一第二導(dǎo)軌,該光源沿該第一導(dǎo)軌于該基準(zhǔn)平面上移動(dòng),該接收器于該第二導(dǎo)軌上以對應(yīng)該光源的方式移動(dòng),該控制單元依據(jù)該接收器是否接收到該光線的結(jié)果,而判斷該裝置的該機(jī)殼表面的何處存在下沉量超過容許值的情況。
8.如權(quán)利要求7所述的表面下沉量量測方法,其還包括依據(jù)裝置的電子元件配置情況,判斷是何電子元件造成下沉量超過容許值的問題。
9.如權(quán)利要求8所述的表面下沉量量測方法,其還包括將裝置水平旋轉(zhuǎn)90度,再次由該光源以及該接收器對該機(jī)殼表面進(jìn)行檢測,以取得該機(jī)殼表面整體平面的機(jī)殼表面下沉量數(shù)據(jù)。
10.如權(quán)利要求7所述的表面下沉量量測方法,其中,該裝置包括兩個(gè)凸耳,分別形成于該裝置的相反的兩側(cè),該支撐架包括兩個(gè)支撐部,所述兩個(gè)支撐部分別支撐所述兩個(gè)凸耳,所述兩個(gè)支撐部為L型結(jié)構(gòu)。
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