[發明專利]陣列基板修復裝置及方法有效
| 申請號： | 201310013800.2 | 申請日： | 2013-01-15 |
| 公開（公告）號： | CN103048815A | 公開（公告）日： | 2013-04-17 |
| 發明（設計）人： | 鄭文達;吳礎任 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/13 | 分類號： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217 | 代理人： | 蔡曉紅;林儉良 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陣列 修復 裝置 方法 | ||
1.一種陣列基板修復裝置，其特征在于，包括：
激光源，用于修復陣列基板上的多余光阻；
檢測裝置，用于檢測陣列基板上是否存在多余光阻；
過濾鏡片，用于使激光源出射的光照射在陣列基板的多余光阻上以修復該多余光阻；
其中，所述過濾鏡片設置在所述陣列基板上方，所述激光源設置在所述過濾鏡片上方，所述檢測裝置設置在所述陣列基板的上方。
2.根據權利要求1所述的陣列基板修復裝置，其特征在于，所述檢測裝置包括圖像采集器，用于獲取陣列基板上的圖案；以及圖像對比器，用于對比陣列基板上的圖案和預先設置的目標圖案，以確定是否存在多余光阻。
3.根據權利要求2所述的陣列基板修復裝置，其特征在于，陣列基板修復裝置包括顯示裝置，所述顯示裝置與所述檢測裝置連接，用于顯示所述陣列基板上的圖案。
4.根據權利要求1-3任一所述的陣列基板修復裝置，其特征在于，所述過濾鏡片上包括遮光區與透光區，所述遮光區的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。
5.一種陣列基板修復方法，其特征在于，包括以下步驟：
檢測陣列基板上是否存在多余光阻；
若存在多余光阻，將過濾鏡片設置在陣列基板上，激光源設置在過濾鏡片上，使得激光源出射的激光在經過過濾鏡片后，照射在多余光阻上；
使用激光源出射的激光對多余光阻進行修復。
6.根據權利要求5所述的陣列基板修復方法，其特征在于，檢測陣列基板上是否存在多余光阻的步驟包括：
獲取陣列基板上的圖案；
將陣列基板上的圖案與預先設置的目標圖案比較。
7.根據權利要求5所述的陣列基板修復方法，其特征在于，該方法還包括顯示陣列基板上的圖案。
8.根據權利要求5-7中任一項所述的陣列基板修復方法，其特征在于，該方法還包括在所述過濾鏡片上形成遮光區與透光區，遮光區的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。
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