[發(fā)明專利]陣列基板修復(fù)裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310013800.2
• 申請(qǐng)日: 2013-01-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103048815A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭文達(dá);吳礎(chǔ)任
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13
• 分類號(hào): G02F1/13
• 代理公司: 深圳市順天達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 44217
• 代理人: 蔡曉紅;林儉良

1.一種陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，包括：

激光源，用于修復(fù)陣列基板上的多余光阻；

檢測(cè)裝置，用于檢測(cè)陣列基板上是否存在多余光阻；

過(guò)濾鏡片，用于使激光源出射的光照射在陣列基板的多余光阻上以修復(fù)該多余光阻；

其中，所述過(guò)濾鏡片設(shè)置在所述陣列基板上方，所述激光源設(shè)置在所述過(guò)濾鏡片上方，所述檢測(cè)裝置設(shè)置在所述陣列基板的上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，所述檢測(cè)裝置包括圖像采集器，用于獲取陣列基板上的圖案；以及圖像對(duì)比器，用于對(duì)比陣列基板上的圖案和預(yù)先設(shè)置的目標(biāo)圖案，以確定是否存在多余光阻。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，陣列基板修復(fù)裝置包括顯示裝置，所述顯示裝置與所述檢測(cè)裝置連接，用于顯示所述陣列基板上的圖案。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，所述過(guò)濾鏡片上包括遮光區(qū)與透光區(qū)，所述遮光區(qū)的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。

5.一種陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，包括以下步驟：

檢測(cè)陣列基板上是否存在多余光阻；

若存在多余光阻，將過(guò)濾鏡片設(shè)置在陣列基板上，激光源設(shè)置在過(guò)濾鏡片上，使得激光源出射的激光在經(jīng)過(guò)過(guò)濾鏡片后，照射在多余光阻上；

使用激光源出射的激光對(duì)多余光阻進(jìn)行修復(fù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，檢測(cè)陣列基板上是否存在多余光阻的步驟包括：

獲取陣列基板上的圖案；

將陣列基板上的圖案與預(yù)先設(shè)置的目標(biāo)圖案比較。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，該方法還包括顯示陣列基板上的圖案。

8.根據(jù)權(quán)利要求5-7中任一項(xiàng)所述的陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，該方法還包括在所述過(guò)濾鏡片上形成遮光區(qū)與透光區(qū)，遮光區(qū)的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。