[發明專利]陣列基板修復裝置及方法

有效

• 申請號: 201310013800.2
• 申請日: 2013-01-15
• 公開（公告）號: CN103048815A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 鄭文達;吳礎任
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 蔡曉紅;林儉良

技術領域

本發明涉及液晶制造技術，更具體地說，涉及一種陣列基板修復裝置及方法。

背景技術

在液晶的陣列基板制造過程中，利用光罩對基底上的刻蝕層進行光照后，會在刻蝕層上留下曝光后的圖形。在這類操作中，若是曝光不夠充分，則有可能出現曝光后的圖形中存在多余光阻的情況，此時需要對多余的光阻進行修補。在現有的技術中，工程人員需要在找到該多余的光阻后，進行手動定位，然后對多余的光阻進行移除或修補的動作。由于陣列基板上形成的圖形結構精密，采用人工定位的操作復雜繁瑣，時常可能出現定位失誤而導致修補失敗。

發明內容

本發明的目的在于，針對現有的陣列基板修復技術中，容易出現定義失誤而導致修補失敗的缺陷，提供一種陣列基板修復裝置及方法以克服該缺陷。本發明的一個方面，提供一種陣列基板修復裝置，包括：

激光源，用于修復陣列基板上的多余光阻；

檢測裝置，用于檢測陣列基板上是否存在多余光阻；

過濾鏡片，用于使激光源出射的光照射在陣列基板的多余光阻上以修復該多余光阻；

其中，過濾鏡片設置在陣列基板上方，激光源設置在過濾鏡片上方，檢測裝置設置在陣列基板的上方。

本發明的陣列基板修復裝置，檢測裝置包括圖像采集器，用于獲取陣列基板上的圖案；以及圖像對比器，用于對比陣列基板上的圖案和預先設置的目標圖案，確定是否存在多余光阻。

本發明的陣列基板修復裝置，還包括顯示裝置，顯示裝置與檢測裝置連接，用于顯示陣列基板上的圖案。

本發明的陣列基板修復裝置，過濾鏡片上包括遮光區與透光區，遮光區的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。

本發明的另一個方面，提供一種陣列基板修復方法，包括以下步驟：

檢測陣列基板上是否存在多余光阻；

若存在多余光阻，將過濾鏡片設置在陣列基板上，激光源設置在過濾鏡片上，使得激光源出射的激光在經過過濾鏡片后，照射在多余光阻上；

使用激光源出射的激光對多余光阻進行曝光修復。

本發明的陣列基板修復方法，檢測陣列基板上是否存在多余光阻的步驟包括：

獲取陣列基板上的圖案；

將陣列基板上的圖案與預先設置的目標圖案比較。

本發明的陣列基板修復方法，還包括顯示陣列基板上的圖案。

本發明的陣列基板修復方法，還包括在過濾鏡片上形成遮光區與透光區，遮光區的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。

實施本發明的陣列基板修復裝置及方法，在進行陣列基板上多余光阻的修復時，無需進行人工定位，通過過濾鏡片快速、準確地對陣列基板進行修復，從而提高了修復過程的工作效率以及修復質量。

附圖說明

以下結合附圖對本發明進行說明，其中：

圖1為本發明陣列基板修復裝置優選實施例的示意圖；

圖2.a為正常狀態下的陣列基板示意圖；

圖2.b為使用圖1所示的陣列基板修復裝置進行修復的帶有多余光阻的陣列基板示意圖；

圖2.c為圖1所示的陣列基板修復裝置中過濾鏡片的示意圖；

圖3為本發明陣列基板修復方法優選實施例的流程圖；

圖4為使用圖3所示的方法進行暗點修復的陣列基板示意圖；

圖5為使用圖3所示的方法進行暗點修復時的過濾鏡片示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖與具體實施方式對本發明進行說明。

如圖1所示為本發明陣列基板修復裝置一則優選實施例的示意圖，在本實施例中陣列基板300為已經經過曝光，在其表面留有圖案的基板。陣列基板修復裝置要對其表面留下的圖案進行檢查修復。

在陣列基板300上方設置有過濾鏡片200，過濾鏡片200上設置有遮光區201和透光區202，遮光區201與原定在該陣列基板300上形成的理想刻蝕圖形相對應。在過濾鏡片200的上方設置有激光源100，激光源100發出的光能夠透過過濾鏡片200上的透光區202，同時會被遮光區201完全阻擋。由于有遮光區201將激光源100的光擋住，僅在陣列基板300的多余光阻上會受到激光的照射，正常區域不會受到曝光。