[發明專利]MOCVD設備反應室進氣的氣體混合與隔離裝置

無效

• 申請號: 201310009608.6
• 申請日: 2013-01-10
• 公開（公告）號: CN103088318A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 冉軍學;胡強;胡國新;梁勇;熊衍凱;王軍喜;曾一平;李晉閩
• 申請（專利權）人: 中國科學院半導體研究所
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/455
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 湯保平

1.一種MOCVD設備反應室進氣的氣體混合與隔離裝置，包括：

一第一氣體入口；

一第一氣體出口；

一第一直通閥門，該第一直通閥門的一端與第一氣體入口連通，該第一直通閥門的另一端與第一氣體出口連通；

一第一旁通閥門，該第一旁通閥門的一端與第一直通閥門的一端連接；

一第二旁通閥門，該第二旁通閥門的一端與第一直通閥門的另一端連接；

一第二氣體入口；

一第二氣體出口；

一第二直通閥門，該第二直通閥門的一端與第二氣體入口連通，該第二直通閥門的另一端與第二氣體出口連通；

一第三旁通閥門，該第三旁通閥門的一端與第二直通閥門的一端連接，該第三旁通閥門的另一端與第一旁通閥門的另一端連接；

一第四旁通閥門，該第四旁通閥門的一端與第二直通閥門的另一端連接，該第四旁通閥門的另一端與第二旁通閥門的另一端連接；

一氣體混合器，該氣體混合器位于第一旁通閥門及第二旁通閥門之間并與之連通。

2.如權利要求1所述的MOCVD設備反應室進氣的氣體混合與隔離裝置，其中第一直通閥門、第一旁通閥門、第二旁通閥門、第二直通閥門、第三旁通閥門和第四旁通閥門均為氣動閥。

3.如權利要求1所述的用于MOCVD設備反應室進氣的氣體混合與隔離裝置，其中該氣體混合器的內部有相對噴射的氣體噴嘴，或者是相互間盤繞的多孔管路，以使不同種類氣體均勻混合。