[發明專利]不銹鋼無微連接點蝕刻成形方法有效
| 申請號: | 201310007801.6 | 申請日: | 2013-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN103060809A | 公開(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發明(設計)人: | 馬文勇 | 申請(專利權)人: | 蘇州運宏電子有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/28 | 分類號: | C23F1/28;C23F1/02 |
| 代理公司: | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 曾少麗 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 不銹鋼 無微連 接點 蝕刻 成形 方法 | ||
1.一種不銹鋼無微連接點蝕刻成形方法,其特征在于依次采用如下步驟:不銹鋼片首次蝕刻、PET載體定位、不銹鋼片二次蝕刻、背膠貼合、圖形鋼片+FPC貼合固化。
2.根據權利要求1所述的不銹鋼無微連接點蝕刻成形方法,其特征在于所述不銹鋼片首次蝕刻之前,進行電鍍鎳。
3.根據權利要求1或2所述的不銹鋼無微連接點蝕刻成形方法,其特征在于所述不銹鋼片首次蝕刻方法如下:
采用:FeCL3+HCL+NaCLO3藥水進行半斷蝕刻、清洗、烘干,然后用PET載體定位,其中蝕刻溫度:45--55℃,壓力:1--6kg/cm2;藥水配比:FeCLO3:300—400g/L,HCL:15-45g/L,NaCLO3:100-400g/L。
4.根據權利要求1或2所述的不銹鋼無微連接點蝕刻成形方法,其特征在于所述不銹鋼片二次蝕刻方法如下:
采用:以PET載體定位,采用FeCL3+HCL+NaCLO3藥水進行圖形蝕刻,完成蝕刻,其中蝕刻溫度:45--55℃,壓力:1--6kg/cm2;藥水配比:FeCLO3:300—-400g/L,HCL:15-45g/L,NaCLO3:100-400g/L。
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