[發(fā)明專利]一種測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310004572.2 | 申請日： | 2013-01-07 |
| 公開（公告）號： | CN103913475A | 公開（公告）日： | 2014-07-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 曾祺森;吳沖滸;聶洪波;馮炎建;肖滿斗;肖偉;朱桂容;江嘉鷺;文曉 | 申請（專利權(quán)）人： | 廈門鎢業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N23/20 | 分類號： | G01N23/20 |
| 代理公司： | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 35204 | 代理人： | 連耀忠 |
| 地址： | 361000 福建*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 測定 wc co 硬質(zhì)合金 中鈷相 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：包括如下步驟：
（1）拋光WC-Co硬質(zhì)合金試樣測試面的步驟；
（2）電解去除試樣表層WC晶粒的步驟；該步驟是將步驟（1）制備的硬質(zhì)合金試樣作為陽極，以銅片作陰極，在電解液中進行電解，以去除硬質(zhì)合金試樣表層一定深度的WC晶粒；
（3）清潔試樣表面的步驟；該步驟是將步驟（2）中得到的試樣浸入稀堿溶液超聲清洗；
（4）用XRD測試WC-Co硬質(zhì)合金試樣中鈷相的結(jié)構(gòu)、晶粒大小和/或晶面間距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：所述步驟（2）電解去除試樣表層WC晶粒的步驟中，所述電解液為2～4mol/L的NaOH、0.2～0.5mol/L的C4H6O和0.05～0.15mol/L的HClO4的混合溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：所述步驟（2）電解去除試樣表層WC晶粒的步驟中，所述電解液為2～4mol/L的KOH、0.2～0.5mol/L?C4H6O和0.05～0.15mol/L?HClO4的混合溶液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法，
其特征在于：所述步驟（2）電解去除試樣表層WC晶粒的步驟中，電解的條件為：在3～10V直流電壓的作用下，電解4～16h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：所述步驟（3）清潔試樣表面的步驟中，堿液中[OH-]的濃度大于1mol/L，超聲時間5～10mins；且完成后用清水超聲清洗試樣表面5～10mins。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：所述步驟（1）拋光WC-Co硬質(zhì)合金試樣測試面的步驟，是通過研磨、拋光WC-Co硬質(zhì)合金獲得硬質(zhì)合金試樣的平整的測試面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測定WC-Co硬質(zhì)合金中鈷相結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于：所述步驟（2）電解去除試樣表層WC晶粒的步驟中，是電解去除WC-Co硬質(zhì)合金測試面表層60～120μm深度的WC相。
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