[發(fā)明專利]聚酰亞胺膜、其制造方法及包含其的聚酰亞胺膜積層板

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310003942.0
• 申請日: 2013-01-07
• 公開（公告）號: CN103374224A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許艷惠;孫德崢
• 申請（專利權(quán)）人: 達勝科技股份有限公司
• 主分類號: C08L79/08
• 分類號: C08L79/08;C08G73/10;C08K3/34;C08K3/36;C08K3/04;C08J5/18;B32B27/06;B32B27/18
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種聚酰亞胺膜的制造方法，包含下列步驟：

將多個無機顆粒與多個碳粉材料分散于一溶劑中，制備一含有無機顆粒及碳粉材料的懸浮溶液；

將二胺單體及四羧酸二酐單體加入所述懸浮溶液中，進行聚合反應(yīng)，制備一含有無機顆粒及碳粉材料的聚酰胺酸混合物；

干燥所述聚酰胺酸混合物，以形成一聚酰胺酸混合物膜；以及

加熱所述聚酰胺酸混合物膜，進行亞酰胺化反應(yīng)，以形成聚酰亞胺膜。

2.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中將二胺單體及四羧酸二酐單體加入所述懸浮溶液中步驟還包含：

持續(xù)攪拌具有無機顆粒及碳粉材料的聚酰胺酸混合物，以避免所述無機顆粒及碳粉材料沉降，而造成分層現(xiàn)象；以及

將所述聚酰胺酸混合物涂布于基材上。

3.如權(quán)利要求2所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述基材為金屬基材。

4.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述無機顆粒的重量百分比為1wt%至49wt%。

5.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述無機顆粒的重量百分比為20wt%至40wt%。

6.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述無機顆粒的粒徑為0.1微米至10微米。

7.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述無機顆粒的粒徑為0.5微米至6微米。

8.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述無機顆粒是選自由云母粉、二氧化硅粉、滑石粉、陶瓷粉、粘土粉、高嶺土、硅膠燒結(jié)粉末及上述組合所構(gòu)成的群組。

9.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述碳粉材料的重量百分比為1wt%至49wt%。

10.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述碳粉材料的重量百分比為3wt%至30wt%。

11.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述碳粉材料的粒徑為0.1微米至10微米。

12.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述碳粉材料的粒徑為0.5微米至6微米。

13.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述碳粉材料是選自由石油、木炭或其它有機物完全或不完全燃燒所產(chǎn)生的碳黑及碳灰、石墨、碳球、碳管、石墨烯及上述組合所構(gòu)成的群組。

14.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述聚酰亞胺膜的60°光澤度小于或等于60GU。

15.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述聚酰亞胺膜的熱膨脹系數(shù)小于或等于30ppm/℃。

16.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述聚酰亞胺膜的光穿透率小于或等于10%。

17.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺膜的制造方法，其中所述聚酰亞胺膜的熱傳導(dǎo)系數(shù)≧0.2W/m-℃。

18.一種聚酰亞胺膜，其是由如權(quán)利要求1至17任一項所述的制造方法所制成，包含：

聚酰亞胺；

無機顆粒；以及

碳粉材料，

其中所述無機顆粒與所述碳粉材料是分散于所述聚酰亞胺中，以形成聚酰亞胺膜。

19.一種聚酰亞胺膜積層板，包含：

一基材；以及

如權(quán)利要求2所述的制造方法所制成的聚酰亞胺膜，覆蓋所述基材。

20.如權(quán)利要求19所述的聚酰亞胺膜積層板，其中所述基材為金屬基材。

21.如權(quán)利要求20所述的聚酰亞胺膜積層板，其中所述金屬基材與所述聚酰亞胺膜間的接著強度大于或等于0.6kgf/cm。