[發(fā)明專利]一種基于輻射源特征的GTEM小室輻射EMI測(cè)試方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310002400.1
• 申請(qǐng)日: 2013-01-04
• 公開（公告）號(hào): CN103048574A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙陽;張宇環(huán);劉勇;竇愛玉;夏歡;陳旸;顏偉;周榮錦
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京師范大學(xué)
• 主分類號(hào): G01R31/00
• 分類號(hào): G01R31/00
• 代理公司: 南京知識(shí)律師事務(wù)所 32207
• 代理人: 李媛媛

1.一種基于輻射源特征的GTEM小室輻射EMI測(cè)試方法，包括如下步驟：

第一步：根據(jù)近場(chǎng)波阻抗理論判定被測(cè)設(shè)備輻射源類型，即判定輻射源是以共模輻射為主還是以差模輻射為主；

第二步：若判定被測(cè)設(shè)備輻射源類型以共模輻射特性為主，則采用極差-均值法處理GTEM小室測(cè)量結(jié)果；若判定被測(cè)設(shè)備輻射源類型以差模輻射特性為主，則采用方差法處理GTEM小室測(cè)量結(jié)果。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于輻射源特征的GTEM小室輻射EMI測(cè)試方法，其特征在于，所述方差法處理是將差模輻射特性為主的被測(cè)設(shè)備GTEM小室測(cè)量結(jié)果與電波暗室測(cè)量結(jié)果誤差補(bǔ)償?shù)紾TEM小室測(cè)量結(jié)果上；所述極差-均值法處理是指將GTEM小室測(cè)量結(jié)果與電波暗室測(cè)量結(jié)果對(duì)應(yīng)頻點(diǎn)數(shù)據(jù)極差求和取平均后補(bǔ)償?shù)紾TEM小室測(cè)量結(jié)果上，公式為：

Ei=f(xi;A)=Σk=0makxik+S′,i=1,2,...,n]]>??

其中：

S′=1nΣi=1n(xi-xGTEM)]]>??

x_i是各頻點(diǎn)下電波暗室測(cè)試結(jié)果，x_GTEMi是對(duì)應(yīng)頻率點(diǎn)GTEM小室測(cè)試結(jié)果，A為(a₀,a₁,...,a_m)，a是f(x_i;?A)的系數(shù)；x為GTEM小室測(cè)得的輻射電場(chǎng)值；E_i為GTEM小室等效遠(yuǎn)場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)值；a_k為待定系數(shù)，由GTEM小室測(cè)量值x_i與標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量值y_i共同確定。