[發(fā)明專利]一種基于輻射源特征的GTEM小室輻射EMI測試方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310002400.1 | 申請日: | 2013-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN103048574A | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 趙陽;張宇環(huán);劉勇;竇愛玉;夏歡;陳旸;顏偉;周榮錦 | 申請(專利權)人: | 南京師范大學 |
| 主分類號: | G01R31/00 | 分類號: | G01R31/00 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人: | 李媛媛 |
| 地址: | 210046 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 輻射源 特征 gtem 小室 輻射 emi 測試 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及的是一種基于輻射源特征的GTEM小室輻射EMI測試方法,具體說就是針對目前利用GTEM小室進行EMI測試時精度較差現(xiàn)象,提出針對不同輻射源類型的不同GTEM測試方法。為利用GTEM進行輻射EMI測試提供了有效借鑒,屬于電磁兼容技術領域。
背景技術
現(xiàn)代電子產品正向小型化、智能化發(fā)展,開關器件頻率越來越高,設計更加復雜,使設備遭受輻射電磁干擾問題日益加重,并且對系統(tǒng)的抗干擾能力的要求越來越高。因而,為了節(jié)省產品開發(fā)費用與時間,進行輻射電磁干擾噪聲測試研究是必不可少的。
電磁兼容測試(EMC)包括測試方法、測試儀器和試驗場所。目前,國內外常用的試驗場地有:開闊場、半電波暗室、屏蔽室、混響室及橫電磁波小室等。EMC測試必須依據(jù)EMC標準和規(guī)范給出的測試方法進行,并以標準規(guī)定的極限值作為判據(jù)。對于預兼容測試,盡管不能保證產品通過所有項目的標準測試,但至少可以消除絕大部分的電磁干擾,從而提高產品的可靠性。而且能夠指出該如何改進設計、抑制電磁干擾(EMI)發(fā)射。電磁兼容測試標準主要有:民品GB17626系列;軍品GJB151A/GJB152A。民品測試項目有電快速瞬變脈沖群抗擾度試驗、浪涌(沖擊)抗擾度試驗、電壓暫降、短時中斷和電壓變化的抗擾度試驗、靜電放電抗擾度試驗、射頻電磁場輻射抗擾度試驗、傳導發(fā)射試驗和輻射發(fā)射試驗。軍品測試有CE101、CE102、CS106、CS114、CS116、RE102等。測試內容包括電磁干擾和電磁敏感度兩部分,電磁干擾測試是測量被測設備在正常工作狀態(tài)下產生并向外發(fā)射的電磁波信號的大小來反應其對周圍電子設備干擾的強弱。電磁敏感度測試是用來衡量被測設備對電磁騷擾的抗干擾能力的強弱。目前針對電子產品輻射電磁干擾噪聲測試的標準測試方法主要是指開闊場測試以及3m,5m,10m電波暗室測試。但是開闊場測試以及3m,5m,10m電波暗室對場地要求較高且造價昂貴,一般企業(yè)無法承受。利用GTEM小室進行輻射EMI測試既能減少測試費用,又能很好地預估輻射電磁干擾噪聲,引起了廣泛的關注。
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題:針對目前利用GTEM小室進行輻射EMI測試時精度較低且沒有進行噪聲源分類的問題,本發(fā)明提供了一種以共模輻射模型為主的極差-均值測量法以及以差模輻射模型為主的方差測量法。該方法通過修正現(xiàn)有Wilson方法,進一步提高了GTEM小室測量輻射EMI噪聲精度。
為了解決以上問題,本發(fā)明采用以下技術方案:
一種基于共模阻抗修正模型的輻射目標重構方法,包括如下步驟:
第一步:根據(jù)近場波阻抗理論判定被測設備輻射源類型,即判定輻射源是以共模輻射為主還是以差模輻射為主;
第二步:若判定被測設備輻射源類型以共模輻射特性為主,則采用極差-均值法處理GTEM結果;若判定被測設備輻射源類型以差模輻射特性為主,則采用方差法處理GTEM結果。
所述方差法處理是將差模輻射特性為主的被測設備GTEM小室測量結果與電波暗室測量結果誤差補償?shù)紾TEM小室測量結果上;所述極差-均值法處理是指將GTEM小室測量結果與電波暗室測量結果對應頻點數(shù)據(jù)極差求和取平均后補償?shù)紾TEM小室測量結果上。
針對GTEM小室用于輻射發(fā)射的測試實驗,本發(fā)明提出了基于電磁干擾源特征的GTEM輻射干擾測量方法:針對以共模輻射源特征為主的被測設備提出了極差-均值法處理GTEM數(shù)據(jù);針對以差模輻射源特征為主的被測設備提出方差法處理GTEM數(shù)據(jù)。從而大大提高了GTEM小室用于輻射EMI測試時的測試結果精度,為基于GTEM輻射EMI測量提供了有效參考。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的共模輻射結果,(a)共模輻射干擾產生電路,(b)電波暗室測試結果,(c)GTEM測試結果。
圖2是差模輻射結果,(a)差模輻射干擾產生電路,(b)電波暗室測試結果,(c)GTEM測試結果。
圖3是實施例的測試結果,(a)具有差模特征的電子助視器的近場波阻抗特性,(b)測量結果。
具體實施方式
下面結合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細地說明。
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