[發明專利]用于制造諧振器的方法

有效

• 申請號: 201280070384.3
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN104126153B
• 公開（公告）日: 2018-07-17
• 發明（設計）人: T·黑塞勒;S·達拉皮亞扎
• 申請（專利權）人: 斯沃奇集團研究和開發有限公司
• 主分類號: G04F5/06
• 分類號: G04F5/06;G04G17/02;B81C1/00;G04B17/06;G04C3/12
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 秘鳳華;吳鵬

本發明涉及一種用于在基底中制造諧振器的方法，其特征在于，該方法包括下述步驟：a)改變基底的至少一個區域的結構，以使所述至少一個區域更具有選擇性；b)蝕刻所述至少一個區域，以便選擇性地制造所述諧振器。

技術領域

本發明涉及一種諧振器，該諧振器包括以變形方式使用的體部，并且該諧振器作為螺旋諧振器或音叉。

背景技術

從現有技術中已知的是，一些由單晶或多晶材料制成的微技術零件(例如諧振器)是通過蝕刻制成的。此工藝包括：獲取待蝕刻的基底，以及將一層光敏樹脂沉積在頂部。在樹脂上放置掩膜，并且將整個組件暴露在光線下，以使暴露在光線下的光敏樹脂結構改變/改性。通過化學元素的作用除去改變的樹脂，使得基底在除去樹脂處被剝離而裸露。

接下來，對基底的這些裸露的區域進行化學蝕刻，以便形成中空部?；瘜W試劑選擇為僅蝕刻形成基底的材料，而不會蝕刻沒有改變的光敏樹脂。此化學蝕刻步驟的持續時間決定了中空部的尺寸。

同樣地，可以設想通過機加工和/或拋光來制造微技術零件，因此鉆頭或拋光機可用于形成所述零件。

這種化學蝕刻工藝的第一個缺陷在于，它不能生成具有直的側面或壁的中空部。事實上，所獲得的中空部具有傾斜的側面。這意味著，中空部的表面隨深度而變化，即，表面隨著中空部的深度而變得更大或更小。通常，表面隨深度變得更小。這一觀察結果意味著必須修改理論計算以獲得具有直側面的中空部。此外，中空部的輪廓在理論和實踐之間的這種變化導致了特性的改變。

發明內容

本發明的一個目的在于，通過提出一種制造方法來克服上述缺陷，其用于制造具有中空部的部件，并且該中空部的側面具有容易實現的傾斜度。

因此，本發明涉及一種在基底內制造諧振器的方法，其特征在于，該方法包括下述步驟：

a)改變基底的至少一個區域的結構，以使所述至少一個區域更具有選擇性；

b)蝕刻所述至少一個區域，以便選擇性地制造該諧振器。

本發明的一個優點在于，由于所使用的材料選擇為可透過激光，因此可以形成位于表面下方的凹陷部。這使得激光能夠瞄準諧振器的表面之上或下方的任一點。因此，使該材料具有選擇性，以便隨后的化學蝕刻僅在通過激光產生改變的材料上進行。因此，獲得了一種允許形成復雜的內部凹陷部的方法。

本發明的方法的有利實施例形成了從屬權利要求的主題。

在第一有利實施例中，該方法還包括下述步驟：

c)從該基底釋放所述部件。

在第二有利實施例中，該至少一個區域的結構由具有飛秒脈寬的激光改變。

在第三有利實施例中，基底由單晶材料制成。

在另一有利實施例中，基底由多晶材料制成。

在另一有利實施例中，基底由諸如陶瓷或玻璃的無定形材料制成。

在另一有利實施例中，基底由聚合物制成。

在另一有利實施例中，該部件為諧振器，該諧振器包括基部，至少兩個平行臂從該基部開始延伸，每個臂均具有上表面和下表面，該諧振器還包括至少一個凹陷部，其形成在該至少兩個平行臂中的至少一個臂的其中一個表面上。

在另一有利實施例中，該至少一個凹陷部采用具有至少一個垂直側面或壁的凹槽的形式。

在另一有利實施例中，該諧振器的每個臂都包括一個凹槽。

在另一有利實施例中，該諧振器在每個臂的上表面上包括凹槽，并且在每個臂的下表面上也包括凹槽。

在另一有利實施例中，該諧振器的每個臂都具有兩個凹槽。