[發明專利]用于制造諧振器的方法

有效

• 申請號: 201280070384.3
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN104126153B
• 公開（公告）日: 2018-07-17
• 發明（設計）人: T·黑塞勒;S·達拉皮亞扎
• 申請（專利權）人: 斯沃奇集團研究和開發有限公司
• 主分類號: G04F5/06
• 分類號: G04F5/06;G04G17/02;B81C1/00;G04B17/06;G04C3/12
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 秘鳳華;吳鵬

1.一種用于在基底中制造諧振器(300,400)的方法，其特征在于，所述方法包括下述步驟：

a)改變基底的至少一個區域的結構，以使所述至少一個區域更具有選擇性；

b)蝕刻所述至少一個區域，以便選擇性地制造所述諧振器；

所述諧振器包括聯接到體部的惰性塊，所述體部由在自身上卷繞以形成螺旋件的條狀件形成，其中，所述體部具有至少一個中空部，以用于局部改變所述體部的剛性并從而調節所述諧振器的頻率和/或調節等時性缺陷，所述至少一個中空部包括直的垂直側面。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括以下步驟：

c)從所述基底釋放所述諧振器。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一個區域的結構被激光(L)改變。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述基底由可透過激光波長的材料制成。

5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述激光(L)的脈寬的范圍是從飛秒到皮秒。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述激光(L)的脈寬的范圍是從飛秒到皮秒。

7.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述基底由單晶材料制成。

8.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述基底由多晶材料制成。

9.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述基底由聚合物制成。

10.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述基底由無定形材料制成，例如陶瓷或玻璃。

11.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述諧振器包括基部(302)，至少兩個平行的臂(304)從所述基部延伸，每個所述臂均具有上表面(314)和下表面(316)，并且所述諧振器還包括形成在所述至少兩個平行的臂(304)中的至少一個臂的其中一個表面上的至少一個凹陷部。

12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述至少一個凹陷部采用具有至少一個垂直側面(312)的凹槽的形式。

13.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述諧振器在每個臂上包括一個凹槽(310)。

14.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述諧振器在每個臂的上表面(314)上包括一個凹槽(310)，并且在每個臂(304)的下表面(316)上包括一個凹槽(310)。

15.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述諧振器在每個臂上包括兩個凹槽(310)。

16.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述諧振器在每個臂的上表面上包括兩個凹槽(310)，并且在每個臂的下表面上包括兩個凹槽(310)。

17.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一個中空部包括至少兩個平行的垂直側面。

18.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述體部由石英或陶瓷或玻璃制成，并包括在所述體部的整個長度上垂直且局部平行的側面。

19.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述體部包括相對于由條狀件在自身上卷繞而形成的其它線圈的平面升高的外線圈。

20.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述體部(100)傳遞和漫射由至少一個發光能量源發出的光。