[發(fā)明專利]低溫電弧離子鍍涂層

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280070072.2
• 申請日: 2012-12-14
• 公開（公告）號: CN104114740B
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發(fā)明（設計）人: S.克拉斯尼策爾;D.庫拉波夫;M.萊希塔勒
• 申請（專利權）人: 歐瑞康表面解決方案股份公司;普費菲孔
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;H01J37/32
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 韋欣華,梁謀

1.用于在真空室中電弧涂覆或電弧離子鍍涂覆基材的涂覆方法，其中使用電弧蒸發(fā)器以使放置在電弧蒸發(fā)器處并且由充當陰極的固體材料組成的靶蒸發(fā)的方式產生涂覆等離子體放電，在電弧蒸發(fā)過程中，使用具有預定磁場強度的磁場加速陰極輝點在固體材料表面上的移動來避免從固體材料表面逐出大量的大顆粒或液滴，由電弧蒸發(fā)產生的帶負電荷的顆粒從陰極流向陽極，特征在于

防止由使用所述磁場強度引起的涂覆等離子體的電勢的額外升高，所述防止通過放置陽極（201）和陰極（209）以使陽極放得離陰極盡可能近，以及通過將磁場線或至少大部分磁場線從陰極直接指向陽極進行，

以避免帶負電荷的顆粒通過從陰極流動到陽極的顯著螺旋運動，并由此使得在涂覆過程中實現(xiàn)更小的基材溫度升高。

2.權利要求1的方法，其特征在于所用的磁場強度是40高斯至500高斯的高磁場強度。

3.權利要求1或2的方法，其特征在于選擇相對于陰極的陽極位置和幾何構型使得磁場線基本上垂直地與陽極表面相交或者至少與陽極表面形成至少45°的角。

4.權利要求1或2的方法，其特征在于選擇相對于陰極的陽極位置和幾何構型，使得與陽極表面相交的磁場線和電場線（207）是基本上平行的。

5.權利要求1或2的方法，其特征在于所述基材溫度是100℃-300℃或更低。

6.權利要求1或2的方法，其特征在于所述靶包含鋁。

7.權利要求1或2的方法，其特征在于所述靶包含鈦或鉻。

8.權利要求2的方法，其特征在于所用的磁場強度是60高斯。

9.權利要求2的方法，其特征在于等離子體中的熱能縮小大于10倍的系數(shù)。

10.權利要求2的方法，其特征在于降低陰極電壓。