[發明專利]用于顯示裝置的傾斜小面有效
| 申請號: | 201280064074.0 | 申請日: | 2012-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN104040407A | 公開(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發明(設計)人: | 羅伯特·L·霍爾曼;克里斯托弗爾·A·萊弗里;湯民豪 | 申請(專利權)人: | 高通MEMS科技公司 |
| 主分類號: | G02B26/00 | 分類號: | G02B26/00;G06F3/044 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 孫寶成 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 顯示裝置 傾斜 | ||
1.一種設備,其包括:
柔性襯底,其具有形成于所述襯底的第一表面中的多個凹痕;及
反射小面,其至少部分地位于所述凹痕內,其中所述反射小面包含:
反射表面,其位于所述小面的面向所述凹痕的側上;及
小面掩蔽結構,其在所述反射小面的與所述襯底相對的側上,其中所述小面掩蔽結構的反射性小于所述反射表面。
2.根據權利要求1所述的設備,其中所述襯底的所述第一表面包含位于所述襯底中的所述凹痕之間的平坦區域,且其中所述反射小面包含經定向而與所述襯底的所述平坦區域成角度的傾斜側壁。
3.根據權利要求2所述的設備,其中所述反射小面具有高度為至少約0.5μm的截頭圓錐形形狀。
4.根據權利要求2或3所述的設備,其中所述傾斜側壁相對于所述襯底的所述平坦區域定向的所述角度在約40°與約50°之間。
5.根據權利要求1到4中任一權利要求所述的設備,其中所述反射表面包含鋁。
6.根據權利要求1到4中任一權利要求所述的設備,其中所述反射表面包含金屬油墨。
7.根據權利要求1到6中任一權利要求所述的設備,其中所述小面掩蔽結構包含光致抗蝕劑層。
8.根據權利要求1到6中任一權利要求所述的設備,其中所述小面掩蔽結構包含干涉式黑色掩模。
9.根據權利要求1到8中任一權利要求所述的設備,其另外包括:
多個經掩蔽導線,其位于所述柔性襯底上,其中所述多個經掩蔽導線中的每一者包含:
導電材料條帶;及
導線掩蔽結構,其具有至少一個導線掩蔽層,其中所述導線掩蔽層的反射性小于所述導電材料條帶。
10.根據權利要求9所述的設備,其中所述導電材料條帶位于所述導線掩蔽結構與所述襯底之間。
11.根據權利要求9或10所述的設備,其中所述多個經掩蔽導線彼此大體平行地延伸。
12.根據權利要求9到11中任一權利要求所述的設備,其中所述襯底的所述第一表面包含位于所述襯底中的所述凹痕之間的平坦區域,且其中所述多個經掩蔽導線在所述襯底的所述第一表面的所述平坦區域上方延伸。
13.根據權利要求9到12中任一權利要求所述的設備,其中所述導線掩蔽結構包含光致抗蝕劑層。
14.根據權利要求9到12中任一權利要求所述的設備,其中所述導線掩蔽結構包含干涉式暗掩模。
15.根據權利要求9到14中任一權利要求所述的設備,其中所述多個經掩蔽導線的寬度小于約5μm。
16.根據權利要求1到8中任一權利要求所述的設備,其另外包括:
顯示器襯底,其中所述柔性襯底位于所述顯示器襯底與所述反射小面之間,且其中所述反射小面的所述反射表面面向所述顯示器襯底;及
反射式顯示器,其位于所述顯示器襯底的與所述柔性襯底相對的側上。
17.根據權利要求16所述的設備,其中所述柔性襯底另外包含形成于所述襯底上的多個經掩蔽導線。
18.根據權利要求17所述的設備,其另外包括位于第一柔性襯底的與所述顯示器襯底相對的側上的第二柔性襯底,其中所述第二柔性襯底包含形成于所述第二柔性襯底上的第二多個經掩蔽導線,且其中第一多個經掩蔽導線實質上正交于第二多個經掩蔽導線而延伸。
19.根據權利要求16到18中任一權利要求所述的設備,其另外包括:
處理器,其經配置以與所述顯示器通信,所述處理器經配置以處理圖像數據;及
存儲器裝置,其經配置以與所述處理器通信。
20.根據權利要求19所述的設備,其進一步包括經配置以將至少一個信號發送到所述顯示器的驅動器電路。
21.根據權利要求20所述的設備,其進一步包括經配置以將所述圖像數據的至少一部分發送到所述驅動器電路的控制器。
22.根據權利要求19到21中任一權利要求所述的設備,其進一步包括經配置以將所述圖像數據發送到所述處理器的圖像源模塊。
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