[發明專利]用于在非剛性待測樣本上進行泄漏檢測的方法

有效

• 申請號: 201280062495.X
• 申請日: 2012-12-28
• 公開（公告）號: CN103998910B
• 公開（公告）日: 2018-01-16
• 發明（設計）人: 丹尼爾·瓦特茲哥;西爾維奧·德克爾
• 申請（專利權）人: 英福康有限責任公司
• 主分類號: G01M3/32
• 分類號: G01M3/32;G01M3/36
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所44237
• 代理人: 張全文

1.一種在非剛性待測樣本上進行泄漏檢測的方法，包括步驟：

將所述待測樣本放置到一薄膜腔中；

降低所述待測樣本外部所述薄膜腔中的壓力，使所述薄膜腔的薄膜依附在所述待測樣本上；

觀測所述薄膜腔的薄膜；

檢測所述薄膜腔的薄膜的空間變化；以及

基于所述薄膜腔的薄膜的空間變化，對所述待測樣本的泄漏進行檢測；其中，依附在所述待測樣本上的所述薄膜的空間變化被理解為泄漏的標識。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在放置所述待測樣本后，在檢測期間，封閉的所述薄膜腔顯示一泄漏量，該泄漏量至少與所述待測樣本的泄漏量一樣高，或至少為所述待測樣本的泄漏量的兩倍。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，通過對所述薄膜表面的位置進行激光光學測量，對所述薄膜的空間變化進行測量。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，對所述薄膜表面進行激光光學測量的方式是：通過對照向所述薄膜表面的激光的偏轉變化進行測量，從而對所述薄膜表面進行激光光學測量。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，通過對一金屬化薄膜表面的電容變化進行測量，對所述薄膜的空間變化進行檢測。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，通過用于指示與所述薄膜表面接觸或非接觸的一裝置，對所述薄膜的空間變化進行檢測。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，根據測量到的薄膜的空間變化，對所述待測樣本中通過泄漏點泄漏的氣體量進行計算。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述薄膜腔中的壓力被降低，降低到比所述待測樣本中的壓力低至少500mbar。

9.如權利要求8所述方法，其特征在于，當保持所述待測樣本中大氣壓力時，降低所述薄膜腔中的壓力。