[發明專利]曝光系統、曝光系統的控制裝置以及曝光系統的控制方法

有效

• 申請號: 201280062403.8
• 申請日: 2012-12-17
• 公開（公告）號: CN103999192A
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發明（設計）人: 大畑公孝;木村忠信;大河原直人
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;G03F7/20
• 代理公司: 北京市隆安律師事務所 11323
• 代理人: 權鮮枝

技術領域

本發明涉及用于對基板進行曝光處理的曝光系統、以及該曝光系統的控制裝置和控制方法。

背景技術

現有的與曝光系統有關的技術例如在特開2001－291756號公報(專利文獻1)中公開。在特開2001－291756號公報(專利文獻1)中公開了如下曝光系統：在用和與已經進行曝光處理的基板對應的掩模相同的掩模進行曝光處理的基板搭載于基板運送機器人的情況下，對用相同的掩模處理的基板優先進行曝光處理，使掩模的更換次數減少。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：特開2001－291756號公報

發明內容

發明要解決的問題

在曝光系統中，有時在一片基板的曝光處理結束后指示更換為與接下來應曝光處理的基板對應的掩模。在特開2001－291756號公報(專利文獻1)記載的曝光系統中，即使在收到這樣的更換指示的情況下，也是優先處理不更換掩模就能進行曝光處理的基板。因此，有期望的基板的曝光處理延遲、生產率反而下降的問題。

另外，在曝光系統中，為了確保對基板曝光的質量，需要定期地清洗掩模。在特開2001－291756號公報(專利文獻1)記載的曝光系統中，優先處理不更換掩模就能進行曝光處理的基板，由此，不進行需要的掩模的清洗，有可能使用在曝光處理時升華物原樣附著的掩模進行曝光處理。其結果是，有基板的曝光質量降低的問題。

本發明是鑒于上述的問題而完成的，其主要目的是提供使掩模更換時的掩模選擇有效率、能以更短時間進行掩模更換的曝光系統。另外，本發明的其他目的是提供能進行定期的掩模清洗、能確保基板的曝光質量的曝光系統。另外，本發明的另一其他目的是提供避免在曝光處理中繼續使用發生異常的掩模、確保基板的曝光質量的曝光系統。

用于解決問題的方案

本發明的曝光系統具備：曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及控制部，其控制上述曝光裝置。控制部從曝光裝置接收表示曝光裝置內的掩模的位置的位置信息，基于位置信息選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。在此，從曝光裝置或者曝光系統所包含的其他裝置向控制部傳遞信息的時間并不特別受到限定。例如，可以實時地向控制部傳遞信息，或者可以僅在改變裝置的狀態時向控制部傳遞信息。

在上述曝光系統中，優選曝光裝置具有頭部，掩模為了對基板曝光而安裝到頭部，掩模的位置信息包含：正在向頭部安裝的掩模的位置；已經安裝到頭部的掩模的位置；以及正在從頭部脫離的掩模的位置。

在上述曝光系統中，優選控制部優先選擇正在向頭部安裝的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。

在上述曝光系統中，優選控制部不選擇正在從頭部脫離的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。

在上述曝光系統中，優選曝光裝置具有：在曝光裝置內暫時保管掩模的緩沖器；以及次使用曝光掩模緩沖器，接下來安裝于頭部的掩模在次使用曝光掩模緩沖器中等待，位置信息包含：停留于緩沖器中的掩模的位置；以及停留于次使用曝光掩模緩沖器中的掩模的位置。

在上述曝光系統中，優選位置信息包含正在送入到曝光裝置中的掩模的位置。

本發明的其他方面的曝光系統具備：通過掩模對基板照射光的曝光裝置；清洗掩模的掩模清洗裝置；以及控制曝光裝置的控制部。控制部從掩模清洗裝置接收掩模清洗裝置清洗掩模的清洗日期和時刻，基于清洗日期和時刻選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。

在上述曝光系統中，優選控制部不選擇從清洗日期和時刻到當前時刻為規定時間以上的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。

本發明的又一方面的曝光系統具備：曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及控制部，其控制曝光裝置。控制部從曝光裝置接收為了基板的曝光處理而使用掩模的處理次數，基于處理次數選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。

在上述曝光系統中，優選控制部不選擇處理次數為規定次數以上的掩模作為在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。

本發明的又一方面的曝光系統具備：曝光裝置，其通過掩模對基板照射光；以及控制部，其控制曝光裝置。控制部從曝光裝置接收表示用于當前基板的曝光的掩模發生異常的異常信息，基于異常信息選擇在接下來曝光的基板的曝光中使用的掩模。