[發明專利]具有可調整的加熱特征的烹飪爐排有效
| 申請號: | 201280061179.0 | 申請日: | 2012-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN104114068B | 公開(公告)日: | 2017-07-11 |
| 發明(設計)人: | M.艾哈邁德 | 申請(專利權)人: | W.C.布拉德利公司 |
| 主分類號: | A47J37/06 | 分類號: | A47J37/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 原紹輝,傅永霄 |
| 地址: | 美國喬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 可調整 加熱 特征 烹飪 | ||
1.一種多部件烹飪爐排,包括:
第一上子爐排,其具有多個第一烹飪構件,所述多個第一烹飪構件由至少一個上橫向構件相對于彼此固持為固定關系;以及
第二下子爐排,其具有多個第二烹飪構件,所述多個第二烹飪構件由至少一個下橫向構件相對于彼此固持為固定關系;以及
其中所述第一上子爐排和所述第二下子爐排配置成裝配在一起使得它們的相應烹飪構件相互配合以限定第一烹飪表面,所述第一烹飪表面相對于對流加熱以相對較高程度的輻射加熱來進行加熱;
其中所述第一上子爐排和所述第二下子爐排各自限定第二烹飪表面,所述第二烹飪表面相對于對流加熱以相對較低程度的輻射加熱來進行加熱;
其中所述第一上子爐排固持其相關聯的烹飪構件于離彼此的第一預定間距處;
其中所述第二下子爐排固持其相關聯的烹飪構件于離彼此的第二預定間距處;
并且所述第一預定間距和第二預定間距不同以便提供利用輻射加熱和對流加熱的不同程度的加熱。
2.根據權利要求1所述的爐排,其特征在于,所述第一上子爐排具有多個上橫向構件,所述多個上橫向構件形成用于其多個烹飪構件的上端帽并且所述第二下子爐排具有多個下橫向構件,所述多個下橫向構件形成用于其多個烹飪構件的下端帽。
3.根據權利要求2所述的爐排,其特征在于,當所述第一上子爐排和所述第二下子爐排裝配在一起時,所述下端帽嵌套于所述上端帽內。
4.根據權利要求3所述的爐排,其特征在于,所述相應烹飪構件與相應端帽固持為固定關系使得所述端帽防止在所述烹飪構件之間沿著其長度的移動。
5.根據權利要求1所述的爐排,其特征在于,當所述第一上子爐排的所述橫向構件擱置于所述第二下子爐排的橫向構件上時,所述第二下子爐排的烹飪構件中斷以接納所述第一上子爐排的橫向構件。
6.一種多部件烹飪爐排,包括:
第一上子爐排,其具有多個第一烹飪構件,所述多個第一烹飪構件由至少一個上橫向構件固持為相對于彼此成固定關系,所述至少一個上橫向構件附連到所述多個第一烹飪構件的端部;以及
第二下子爐排,其具有多個第二烹飪構件,所述多個第二烹飪構件由至少一個下橫向構件固持為相對于彼此成固定關系,所述至少一個下橫向構件附連到所述多個第二烹飪構件的端部;
其中所述第一上子爐排和所述第二下子爐排配置成裝配在一起使得它們的相應烹飪構件相互配合以限定第一烹飪表面,所述第一烹飪表面相對于對流加熱以相對較高程度的輻射加熱來進行加熱;
其中所述第一上子爐排和所述第二下子爐排各自限定第二烹飪表面,所述第二烹飪表面相對于對流加熱以相對較低程度的輻射加熱進行加熱;
其中在所述第一上子爐排的所述烹飪構件之間的間距不同于在所述第二下子爐排的所述烹飪構件之間的間距以便在所述第一上子爐排與所述第二下子爐排之間形成不同程度的對流加熱。
7.根據權利要求6所述的爐排,其特征在于,當所述第一上子爐排和所述第二下子爐排相互配合時,所述第二下子爐排的下橫向構件嵌套于所述第一上子爐排的上橫向構件內。
8.根據權利要求7所述的爐排,其特征在于,所述第一上子爐排的所述上橫向構件具有合作的凹部以當與所述第二下子爐排的下橫向構件嵌套時裝配所述第二下子爐排的多個第一烹飪構件。
9.根據權利要求6所述的爐排,其特征在于,所述第一上子爐排和所述第二下子爐排的多個第一烹飪構件和多個第二烹飪構件為倒置的V形烹飪構件。
10.根據權利要求6所述的爐排,其特征在于,所述第一上子爐排的所述多個第一烹飪構件為V形并且具有一部分移除的端部,所述端部的移除的一部分的大小適于裝配到所述上橫向構件中限定的孔內。
11.根據權利要求6所述的爐排,其特征在于,所述第二下子爐排的所述多個第二烹飪構件為V形并且具有一部分移除的端部,所述端部的移除的一部分的大小適于裝配到所述下橫向構件中限定的孔內。
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