[發明專利]掩膜

有效

• 申請號: 201280059575.X
• 申請日: 2012-01-19
• 公開（公告）號: CN103959155B
• 公開（公告）日: 2017-02-22
• 發明（設計）人: 金信英;洪敬奇;尹赫;朱元喆;趙鏞一;樸文洙;高銅浩;柳秀英
• 申請（專利權）人: LG化學株式會社
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 北京金信知識產權代理有限公司11225
• 代理人: 朱梅,李維盈

技術領域

本發明涉及光照裝置和制造光取向層的方法。

背景技術

液晶面板包括光取向層、使用液晶的補償膜、濾光片、液晶等。其中，光取向層使液晶在所需方向上取向。光取向層可以通過向光取向材料的層照射，例如，線性偏振光而形成。

隨著液晶面板尺寸的增加，在液晶面板中包括的光學功能膜的尺寸也增加，相應地，用于光取向層的光照射表面的尺寸也增加。因此，已經研究了多種方法以使得更大的光取向層均勻取向。

發明內容

技術問題

本發明提供了一種光照裝置和制造光取向層的方法。

技術方案

本發明的一個方面提供了一種光照裝置，其包括安裝了目標物的器件和包括至少一個將光導向目標物表面的開口的掩膜。所述開口的尺寸根據掩膜和目標物之間的距離進行調節。

在本發明的一個實施方式中，“能夠導光至目標物(例如被照射體)表面的開口”可以指的是，例如，這樣的開口，其被設置成允許照射到掩膜的一側表面上的光通過該開口照射到該掩膜的另一側表面上，然后到達目標物的表面上。所述開口的結構將在下文中參考圖1和2進行詳細描述。

在本發明的一個實施方式中，照射到掩膜的另一側表面上然后到達目標物的表面的光可以為具有平直性的光(平行光或近平行光)。這里，“具有平直性的光”可以指的是在照射到一部分掩膜上的光到達目標物的表面過程中擴散的光，或者指的是照射方向極少改變至不期望的方向的光或者向不期望的方向的照射被最小化或抑制的光。在一個實例中，“具有平直性的光”可以指的是在光從掩膜的另一側表面照射的過程中發散角在大約±10°、±5°或±3.5°范圍內的光。這里，“發散角”可以指的是在與掩膜平面正交的法線和由開口引導的光的移動方向之間形成的角。

在本發明的一個實施方式中，由開口引導的光可以為線性偏振光。所述線性偏振光可以用于，例如，當目標物為光取向層時為光取向層提供取向。

在本發明的一個實施方式中，所述開口的尺寸可以根據用所述經引導的光照射的目標物的表面和掩膜之間的距離進行調節。在本公開中，根據目標物表面和掩膜之間的距離調節的開口尺寸可以指的是，例如，考慮到目標物表面和掩膜之間的距離進行調節的開口的厚度、寬度或縱橫比。例如，可以控制所述開口的尺寸、寬度或縱橫比以與所述目標物表面和掩膜之間的距離具有函數關系。

圖1圖示了根據本發明的一個實施方式的掩膜40的實例。在圖1中，掩膜40包括多個開口42，所述開口42在相同方向上延伸并布置成彼此平行。但是，根據本發明另一個實施方式的掩膜可以包括一個開口42。也即是說，掩膜40的開口42的數目和布置沒有特殊限制，并且可以根據目標物(即被照射體)的類型進行適當調節。例如，掩膜40的開口42的數目和布置形式當目標物50為光刻膠時可以考慮要曝光部分的數目和形式進行適當調節，以及當目標物50為光取向層時可以考慮要取向部分的數目和形式或者工藝效率進行適當調節。

開口42的尺寸，例如，開口42的厚度“t”、寬度“w”或縱橫比w/t可以根據目標物50的表面和掩膜40之間的距離進行調節。這里，開口42的厚度“t”指的是照射到掩膜40的一側上的光通過開口42的最短距離，也即是說，垂直連接掩膜40的一側與另一側的直線的長度。開口42的寬度“w”指的是垂直連接開口42的兩側的直線的長度。例如，可以調節開口42的厚度“t”。當從開口42照射的光到達目標物50時，可以調節開口42的尺寸以提高從開口42照射的光的平直性。

圖2顯示了圖1的掩膜沿線I-I截取的橫截面，其中，掩膜40的開口42的尺寸根據掩膜和目標物50的表面之間的距離進行調節。

在圖2中，L2指的是由開口42引導并具有0°的發散角的光，而L1指的是由開口42引導并具有θ°的發散角的光。“發散角”可以為在與掩膜40的平面垂直的法線和由開口引導的光的前進方向之間形成的角，如圖2所示。

根據本發明的一個實施方式，可以形成開口42以產生具有優異平直性的光，從而將該光照射到目標物50的表面上的目標區域上，例如，在圖2中由S指示的區域。例如，即使存在發散角很大的光，也可以調節開口42的尺寸，使得考慮到目標物50的表面和掩膜40之間的距離，例如，圖2中由“a”所示的距離，圖2中的偏差距離能夠被最小化或為零，從而光不會照射到目標物50中的所需部分S之外，例如，直至由“b”所示的距離(以下稱為“偏差距離”)。在圖2中，“a”指的是目標物50和掩膜40之間的間距。