[發明專利]掩膜

有效

• 申請號: 201280059575.X
• 申請日: 2012-01-19
• 公開（公告）號: CN103959155B
• 公開（公告）日: 2017-02-22
• 發明（設計）人: 金信英;洪敬奇;尹赫;朱元喆;趙鏞一;樸文洙;高銅浩;柳秀英
• 申請（專利權）人: LG化學株式會社
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 北京金信知識產權代理有限公司11225
• 代理人: 朱梅,李維盈

1.一種掩膜，其包括至少一個開口以將光引導至目標物，該開口的尺寸根據所述掩膜和所述目標物的距離進行調節。

2.根據權利要求1所述的掩膜，其中，所述用所述開口引導的光為線性偏振光。

3.根據權利要求1所述的掩膜，其中，所述開口的厚度基本上等于或大于所述掩膜和所述目標物之間距離的5倍。

4.根據權利要求1所述的掩膜，其中，所述開口的寬度從該開口的照射光的一側向該開口的發射被該開口引導的光的一側變窄。

5.根據權利要求1所述的掩膜，其進一步包括在所述開口的內壁上形成的全反射層。

6.根據權利要求1所述的掩膜，其中，所述目標物具有彎曲表面，并且所述開口的尺寸根據該彎曲表面的曲率半徑進行調節。

7.根據權利要求6所述的掩膜，其中，所述目標物的彎曲表面的曲率半徑為150mm至250mm，并且所述開口的厚度為5mm至20mm。

8.根據權利要求6所述的掩膜，其中，所述目標物的彎曲表面的曲率半徑基本上等于或大于50mm。

9.根據權利要求6所述的掩膜，其中，所述目標物的彎曲表面的曲率半徑為50mm至500mm。

10.根據權利要求6所述的掩膜，其中，與所述目標物相對的表面為彎曲表面。

11.根據權利要求10所述的掩膜，其中，所述掩膜和目標物之間的相對表面具有相同的曲率半徑。

12.根據權利要求10所述的掩膜，其中，所述掩膜和目標物之間的相對表面具有相同的距離。

13.根據權利要求11或12所述的掩膜，其中，所述掩膜和目標物之間的相對表面的曲率半徑或距離具有5％的誤差范圍。

14.一種裝置，其包括：

安裝了目標物的器件；以及

掩膜，其包括至少一個開口以將光引導至目標物，其中，該開口的尺寸根據所述掩膜和所述目標物之間的距離進行調節。

15.根據權利要求14所述的裝置，其中，所述開口的厚度基本上等于或大于所述掩膜和所述目標物之間距離的5倍。

16.根據權利要求15所述的裝置，其中，所述掩膜和所述目標物之間的距離大于0mm且基本上等于或小于50mm。

17.根據權利要求14所述的裝置，其中，所述器件被設置成安裝所述目標物以使得所述目標物的表面具有彎曲形狀，并且根據所述目標物的曲率半徑調節所述掩膜的開口的尺寸。

18.根據權利要求17所述的裝置，其中，所述目標物的表面的曲率半徑為150mm至250mm，并且所述開口的厚度為5mm至20mm。

19.根據權利要求17所述的裝置，其中，所述器件的曲率半徑基本上等于或大于50mm。

20.根據權利要求17所述的裝置，其中，所述器件的曲率半徑為50mm至500mm。

21.根據權利要求17所述的裝置，其中，所述掩膜和所述目標物之間的相對表面為彎曲表面。

22.根據權利要求21所述的裝置，其中，所述掩膜和目標物之間的相對表面具有相同的曲率半徑。

23.根據權利要求21所述的裝置，其中，所述掩膜和目標物之間的相對表面具有相同的距離。

24.根據權利要求22或23所述的裝置，其中，所述掩膜和目標物之間的相對表面的曲率半徑或距離具有5％的誤差范圍。

25.根據權利要求14所述的裝置，其進一步包括將光照射到所述掩膜上的光源，所述光源被設置成產生僅朝向所述掩膜線性前進的光。

26.根據權利要求25所述的裝置，其中，所述光源包括短弧放電燈。

27.根據權利要求25所述的裝置，其中，所述光源包括多個布置成兩行或更多行的光照單元，并且一行的光照單元和與該行相鄰的另一行的光照單元被布置成彼此錯位重疊。

28.根據權利要求25所述的裝置，其進一步包括聚光器，所述聚光器被設置成會聚從光源照射的光并將所述會聚光傳向所述掩膜。