[發明專利]光刻設備、器件制造方法和計算機程序

有效

• 申請號: 201280057705.6
• 申請日: 2012-11-06
• 公開（公告）號: CN103946750B
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發明（設計）人: P·提奈馬恩斯;A·布里克爾;E·魯普斯特拉
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

本發明涉及參照部位的位置和/或旋轉確定用于照射目標上的多個部位的多個束的強度值。此外提供相關的光刻或曝光設備，相關的器件制造方法和相關的計算機程序。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2011年11月29日遞交的美國臨時申請第61/564,642號的權益。該臨時申請以引用的方式整體并入本文。

技術領域

本發明涉及曝光設備、光刻設備、制造器件的方法以及計算機程序。

背景技術

光刻設備是一種將期望的圖案應用到襯底上或襯底的一部分上的機器。光刻設備可以用于例如集成電路(IC)、平板顯示器以及具有精細特征的其它裝置或結構的制造中。在傳統的光刻設備中，可以將稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于產生對應于IC、平板顯示器或其它裝置的單層的電路圖案。可以將這一圖案轉移到襯底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如經由成像將所述圖案轉移到在所述襯底上設置的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。在類似方面中，曝光設備是在襯底(或襯底的一部分)上形成期望的圖案的過程中使用輻射束的機器。

除了電路圖案，圖案形成裝置還可以用于產生其它圖案，例如濾色器圖案或點矩陣。替代傳統的掩模，圖案形成裝置可以包括圖案形成陣列，該圖案形成陣列包括產生電路或其它可應用圖案的獨立可控元件的陣列。與傳統的基于掩模的系統相比，這樣的“無掩模”系統的優點是，可以更加快速地設置和/或更換圖案，且成本較小。

因此，無掩模系統包括可編程圖案形成裝置(例如空間光調制器、對比度裝置等)。使用獨立可控元件的陣列對可編程圖案形成裝置進行(例如電子或光學地)編程，用于形成期望的圖案化的束。可編程圖案形成裝置的類型包括微反射鏡陣列、液晶顯示器(LCD)陣列、光柵光閥陣列、自發射式對比度裝置的陣列等。可編程圖案形成裝置還可以由光電偏轉器形成，其配置成例如移動投影到襯底上的輻射的斑點或間歇地將輻射束從襯底引導離開，例如引導至輻射束吸收器。在任一這樣的布置中，輻射束可以是連續的。

發明內容

在光刻或曝光過程中，可以產生多個輻射束，被圖案化并且投影到襯底上。多個束可以不具有良好地限定的邊界并且不同程度地重疊。在一個示例中，可以使用自發射對比度裝置的陣列以便生成輻射束，如上指出的。然而，雖然自發射對比度裝置中的每一個可以設計成提供具有名義輪廓的輻射束，但是在自發射對比度裝置的每一個提供的輻射束的輪廓中容易存在一些變化。這可以例如由于制造容差和/或在使用時影響自發射式對比度裝置的性能的環境因素。自發射式對比度裝置可以例如是激光二極管。

投影到襯底上的輻射束的輪廓的變化是不希望的。尤其地，束輪廓中的變化影響相鄰的成像點之間的相互作用，導致束之間的串擾或耦合。為了解決這個問題，可以調節成像時各個束的相互作用以考慮相鄰斑點的影響。每個束的(去)卷積核被用于計算該相互作用。因此，期望提供例如一種光刻或曝光系統，其中一個或多個輻射束的輪廓相對于名義輪廓的偏差誘發的一個或多個問題可以消除或減輕。

根據本發明的實施例，提供一種曝光設備，包括：輻射源，配置成產生具有獨立可控強度的多個輻射束；投影系統，配置將所述輻射束中的每一輻射束投影到目標上的相應部位(location)；和控制器，配置成計算所述多個輻射束中的每一輻射束的目標強度值，以將目標曝光至想要的圖案并控制輻射源發射具有目標強度值的多個束，其中所述控制器參照多個部位中的每一個部位相對于投影系統的位置和/或旋轉計算目標強度值。

根據本發明的實施例，提供一種器件制造方法，其中目標將要用想要的圖案照射，所述方法包括：計算將要用于照射所述目標的多個輻射束中的每一輻射束的強度值，參照在目標上的多個部位的相對于投影系統的位置和/或旋轉執行所述計算；和使用投影系統將具有計算的強度值的輻射束投影到部位中的對應的一個部位上。